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ASML對掌握EUV光刻機的生產技術十分自信 ， 表示即便放出圖紙 ， 別人也造不出 。 很多光刻機巨頭也明白造EUV光刻機的難度 ， 所以基本上只專注中低端光刻機 ， 對高端EUV光刻機并未全力以赴 。
然而俄羅斯傳出新消息 ， 計劃研發媲美EUV的光刻機設備 ， 自主打造高端光刻機 。 俄羅斯定下怎樣的高端光刻機研發計劃呢？能利好華為嗎？
俄羅斯定下高端光刻機研發目標高端EUV光刻機的生產難度相信大家都有所耳聞 ， 很多人為形容生產EUV光刻機的難度 ， 會列出一大堆數據 。 例如采用10萬個零部件 ， 90%的技術來自世界各國頂級科技 ， 還有5000家供應商等等 。
涉及到光刻機的四大件 ， 更是需要幾十年的技術沉淀 ， 不是一個國家能獨立造出來的 。 可我們一直被傳統的思想觀念給束縛了 ， ASML作為唯一能生產EUV光刻機的制造商 ， 其在中高端光刻機技術領域采用的是深紫外和極紫外光技術 。
最高的極紫外光EUV可以達到13.5nm波長 ， 適用于7nm及以下的芯片制造 。
可是俄羅斯另辟蹊徑 ， 沒有從傳統的極紫外光方向出發 ， 而是打算采用X射線打造出媲美EUV光刻機的半導體設備 。 具體是什么情況呢？
據傳來的消息顯示 ， 俄羅斯計劃首期投資6.7億盧布 ， 由莫斯科電子技術學院承接高端光刻機項目 。 這一光刻機被稱作無掩模X射線光刻機 ， 計劃達到EUV光刻機級別 。
大致情況就是如此 ， 俄羅斯拿出不菲的研究經費 ， 還是由俄羅斯最頂級的研究學府機構參與項目 。
但大部分人對于俄羅斯的這項舉動是有些匪夷所思的 ， 研發EUV光刻機何等艱難 ， ASML也是靠著背后幾十個EUV聯盟國的共同扶持才有的今天 。
ASML生產的EUV光刻機自主技術占比只有10% ， 其余均靠進口完成 。 而現在隔壁鄰居猶如一葉扁舟 ， 遺世而獨立 ， 怎么可能獲得來自這么多國家的技術支持 。
更何況是當下這種情況 ， 又有多少供應商會供應技術 。 所以只能靠自己 ， 那問題是俄羅斯自研高端光刻機有多大的把握 ， 或者有哪些技術優勢？
俄羅斯研發X射線光刻機的優勢這就不得不提到X射線了 ， X射線比極紫外光有更短的波長 ， 可以達到0.01nm到10nm ， 這決定了X射線光刻機有更高的分辨率 。 對刻畫更細小的芯片電路有更大的技術優勢 。
另外X射線光刻機沒有光掩模版 ， 省去了傳統EUV光刻機光掩模復刻電路圖到硅片上等多個步驟 。 如此一來 ， 研發成本和生產難度都會大大降低 。
最后一個就是俄羅斯有深厚的X射線技術積累 ， 意味著俄羅斯并不是從頭開始 。 估計只需要一定程度的推動和資金支持 ， 加大對X射線光刻機的研發 ， 就有可能獲得實際成果落地 。
所以俄羅斯研發X射線光刻機的優勢是比較明顯的 ， 如果沒有絕對的把握 ， 估計對方也不會定下如此遠大的目標 。
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