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三星|18臺(tái)EUV？三星高層兩赴ASML，外媒：臺(tái)積電笑了

芯片阿斯麥爾三星臺(tái)積電

三星|18臺(tái)EUV？三星高層兩赴ASML，外媒：臺(tái)積電笑了

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三星|18臺(tái)EUV？三星高層兩赴ASML，外媒：臺(tái)積電笑了

光刻機(jī)是芯片制造設(shè)備最關(guān)鍵的設(shè)備之一 ， 因此一直以來(lái)備受關(guān)注 。 尤其是EUV光刻機(jī) ， 因?yàn)槭侵圃?nm及以下制程的必要設(shè)備 ， 更是引起了晶圓大廠的激烈爭(zhēng)奪 。
不僅高端芯片代工需要EUV ， 存儲(chǔ)芯片也開(kāi)始引入EUV工藝 ， EUV爭(zhēng)奪更加激烈 。 尤其是三星 ， 渴望得到更多EUV ， 為此高層兩赴ASML ， 這次能爭(zhēng)得18臺(tái)EUV？

EUV光刻機(jī)需要爭(zhēng)奪 ， 主要是因?yàn)榧夹g(shù)非常先進(jìn) ， 集成了全球多項(xiàng)頂尖的技術(shù) ， 目前只有ASML一家能夠生產(chǎn) ， 且一臺(tái)EUV就需要10萬(wàn)多個(gè)零件 ， 因此產(chǎn)能非常有限 。
從EUV光刻機(jī)成品開(kāi)始出貨到現(xiàn)在10多年時(shí)間 ， 截至今年第一季度 ， ASML總共才出貨了143臺(tái)EUV 。 值得一提的是 ， 這其中有一半左右的EUV都被臺(tái)積電買走了 。
剩下的另一半被三星、英特爾、SK海力士等分得 ， 這也是臺(tái)積電領(lǐng)先的原因之一 。

臺(tái)積電多年來(lái)在芯片代工行業(yè)領(lǐng)先 ， 主要就是在制造技術(shù)和芯片產(chǎn)能這兩方面領(lǐng)先 。 三星為了趕超臺(tái)積電 ， 一直在默默地努力 ， 甚至制定了2030年超過(guò)臺(tái)積電的目標(biāo) 。
如今 ， 在芯片制造技術(shù)上基本趕了上來(lái) ， 5nm跟臺(tái)積電一樣實(shí)現(xiàn)量產(chǎn) ， 3nm工藝上又將一較高下 。 三星在3nm上不僅采用了新的GAA工藝 ， 量產(chǎn)時(shí)間也早于臺(tái)積電 。
還有2nm ， 三星計(jì)劃的量產(chǎn)時(shí)間也跟臺(tái)積電同步 ， 可見(jiàn)在芯片技術(shù)上已有了底氣 。

不過(guò) ， 在芯片代工產(chǎn)能上 ， 三星還差不少 。 臺(tái)積電占全球市場(chǎng)份額54%左右 ， 三星才18% ， 僅是人家的三分之一 。 尤其是高端芯片 ， 臺(tái)積電提供了62%的EUV晶圓 。
為使產(chǎn)能也跟上 ， 三星投入大量資金建廠擴(kuò)產(chǎn) ， 這就需要更多的EUV 。 為此 ， 去年三星高層就去ASML總部爭(zhēng)取 ， 近日三星高層又去ASML爭(zhēng)取 ， 希望能獲得更多EUV 。
有消息顯示 ， 經(jīng)過(guò)爭(zhēng)取 ， 今年能獲得至少18臺(tái)EUV 。 那么 ， 三星能如愿以償嗎？

第一 ， EUV產(chǎn)能緊張
由于全球缺芯的影響 ， 各地紛紛擴(kuò)產(chǎn) ， 造成了芯片制造設(shè)備緊張 ， 光刻機(jī)更不例外 。 尤其是EUV ， 今年年初開(kāi)始就受到了柏林火災(zāi)、卡爾蔡司鏡頭產(chǎn)能跟不上等的影響 。
今年一季度就影響就顯現(xiàn)了 ， 僅出貨3臺(tái)EUV 。 ASML表示今年繼續(xù)擴(kuò)大產(chǎn)能 ， 去年48臺(tái)EUV ， 今年估計(jì)為51臺(tái) ， 也僅多出3臺(tái) ， 三星能夠爭(zhēng)取的應(yīng)該也就是這個(gè) 。
因此 ， 消息傳的三星能夠獲得18臺(tái) ， 應(yīng)該是去年15臺(tái)的基礎(chǔ)上 ， 再加上這3臺(tái) 。

第二 ， EUV需求增大
ASML總裁近期更是表示 ， 未來(lái)兩年各大晶圓廠的擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃將受到設(shè)備短缺影響 。 因?yàn)槿毙静还庥绊懶酒嚓P(guān)企業(yè) ， 還影響到了設(shè)備制造廠 ， ASML的光刻機(jī)也是如此 。
不僅產(chǎn)能有限 ， EUV需求也增大了 。 之前英特爾對(duì)EUV需求不大 ， 如今重啟芯片代工后 ， 又開(kāi)始大舉建廠 ， 并且還決定在先進(jìn)制程上跟臺(tái)積電競(jìng)爭(zhēng) ， 也需要更多EUV 。
關(guān)鍵是英特爾還有優(yōu)勢(shì) ， ASML的EUV技術(shù)就來(lái)自人家的組織 ， 因此就會(huì)更傾向 。

第三 ， 臺(tái)積電有優(yōu)勢(shì)
之前 ， ASML的先進(jìn)光刻機(jī)都是優(yōu)先給臺(tái)積電 。 如今 ， 新一代EUV首發(fā)就給了英特爾 ， 可見(jiàn)人家的地位了吧 ， 三星可比不了 。 不過(guò) ， 英特爾應(yīng)該從明后年才會(huì)大量需要 。

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