這次招標(biāo) ， 暴露出了國產(chǎn)光刻機(jī)和阿斯麥爾光刻機(jī)之間的差距 ， 意味著國產(chǎn)光刻機(jī)的發(fā)展依舊是任重而道遠(yuǎn) ， 不僅僅是DUV ， EUV ， 還有那些已經(jīng)實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化的后道光刻機(jī)方面 。 正所謂居安思危 ， 我們在進(jìn)步 ， 但是也并不代表阿斯麥爾就在那邊原地踏步 ， 那么 ， 未來 ， 阿斯麥爾還將可能會給我國光刻機(jī)的發(fā)展帶來哪些不友好的信號呢？
阿斯麥爾還將帶給國產(chǎn)光刻機(jī)發(fā)展哪些不好的信號2022年5月17日 ， 阿斯麥爾當(dāng)天在自己的公眾號中發(fā)表了一篇名為《創(chuàng)新 ， 讓摩爾定律煥發(fā)光彩》的文章 。 在這篇文章中 ， 雖然目前面臨摩爾定律的極限 ， 但是 ， 阿斯麥爾自信 ， 憑借著現(xiàn)有技術(shù) ， 完全有能力實(shí)現(xiàn)1納米工藝制程芯片生產(chǎn)設(shè)備的落地 ， 摩爾定律可以繼續(xù)生效十年甚至更長的時間 。
這不是說大話 ， 目前阿斯麥爾還是有不少技術(shù)創(chuàng)新的 ， 比如 gate-all-around FETs、nanosheet FETs等等前瞻技術(shù) 。 此外 ， 阿斯麥爾在光刻系統(tǒng)分辨率和邊緣放置誤差對精度的衡量 ， 據(jù)說都可以推動芯片尺寸進(jìn)一步縮小 。
看樣子 ， 阿斯麥爾的實(shí)力不僅強(qiáng)勁而且還在不斷進(jìn)步 ， 因?yàn)?， 未必不能給國產(chǎn)光刻機(jī)的發(fā)展帶來難題 。
另外 ， 根據(jù)路透社5月20日報(bào)道 ， 阿斯麥爾正在研發(fā)一款半導(dǎo)體新型光刻機(jī) ， 價值高達(dá)4億美元 ， 大小方面就和我們常見的雙層巴士差不多 ， 重量超過了200噸 ， 將用于生產(chǎn)下一代芯片 ， 芯片的應(yīng)用范圍可以覆蓋手機(jī)、汽車、AI等等 ， 這臺新型的 ， 更加先進(jìn)的光刻機(jī)有希望在2023年 ， 也就是明年亮相市場 。
這樣一來 ， 在阿斯麥爾自身光刻機(jī)設(shè)備生產(chǎn)實(shí)力不斷增強(qiáng)的情況下 ， 又如何不會是國產(chǎn)光刻機(jī)發(fā)展的難題呢？
總結(jié)【光刻機(jī)|國產(chǎn)光刻機(jī)被中企拒之門外，ASML大獲全勝，意味著什么？】國產(chǎn)光刻機(jī)無緣上海積塔半導(dǎo)體光刻機(jī)設(shè)備招標(biāo) ， 反而讓阿斯麥爾直接包圓 。 這意味著我國和阿斯麥爾之間依舊還存在著相當(dāng)一定程度上的差距 。 未來 ， 國產(chǎn)光刻機(jī)的發(fā)展依舊是任重而道遠(yuǎn) 。
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