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光刻機|EUV光刻機關鍵技術，迎來突破后，終于明白ASML為何“變臉”了！

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光刻機|EUV光刻機關鍵技術，迎來突破后，終于明白ASML為何“變臉”了！

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光刻機|EUV光刻機關鍵技術，迎來突破后，終于明白ASML為何“變臉”了！

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造EUV光刻機到底有多艱難呢？像ASML工程師說的一樣：就算是將光刻機的圖紙給了中國 ， 那么中國也是造不出來的 。

而發(fā)展到現(xiàn)在 ， ASML雖說也再次提及類似這樣的言論 ， 但是也有突然的“變臉” 。 就在前段時間 ， ASML表態(tài)：中國是不太可能獨立的復制出尖端的光刻機技術 。 本以為 ， 現(xiàn)在的ASML跟以前一樣有莫大的底氣 。 但事實上 ， 在說出了這一番話之后 ， ASML又改口給自己留了一絲余地 。 聲稱 ， 也不是完全沒有可能 ， 因為中國的科學家是會不斷去嘗試的 。

當時 ， 小編還不明白ASML為何突然就“變臉” ， 對中國尖端光刻機的研發(fā)一邊潑冷水 ， 一邊又給了一些“信心” 。 但是當EUV光刻機關鍵技術 ， 被宣布突破之后 ， 小編終于明白了ASML改變態(tài)度的原因 。
近日 ， 《半導體學報》發(fā)布了2021年度中國半導體十大研究進展報告 。 據(jù)報告中的信息顯示：北京大學電子顯微鏡實驗室高鵬研究員研究組 ， 已經(jīng)成功的掌握了掃描透射電子顯微鏡技術 。 而且還不僅是如此 ， 此項技術突破了傳統(tǒng)的局限 ， 實現(xiàn)了精度更高的EUV光鏡制程技術 。 這意味著 ， EUV光刻機的關鍵技術再次宣布了突破 。

幸運的是 ， 在EUV光刻機的物鏡、光源、雙件工作臺這三項關鍵的核心技術上 ， 我們中國的科研機構以及半導體企業(yè)等都在陸陸續(xù)續(xù)的完成了突破 。 那么現(xiàn)在這種局面對于我們來說無疑是一個不錯的消息 。 畢竟 ， 當科研成果進一步商業(yè)化的時候 ， 我們距離造出EUV光刻機的進程也就更短了 ， 屆時打破ASML在EUV光刻機市場上的壟斷地位也指日可待 。 這也難怪ASML會變臉 。

而個人也認為 ， 這一項關鍵技術的突破也關乎于華為、中芯的“命運” 。
且看華為現(xiàn)在的麒麟芯片所遭遇的困境 ， 其實破解的方法就是需要我們有自主研發(fā)的EUV光刻機 。 一旦EUV光刻機被研發(fā)出來 ， 那么華為的麒麟芯片就可以重見天日 ， 那么對于華為手機業(yè)務的命運來說可是一大幸事 。

而中芯 ， 雖說代工實力正在不斷的增強 ， 但是就EUV光刻機上這一點也是中芯暫時無法更快推進先進工藝制程的短板 ， 導致和臺積電以及三星的代工實力還有差距 。 但若是EUV光刻機被徹底突破 ， 中芯獲得了EUV光刻機 ， 加之梁孟松等一眾科技人員的努力 ， 那么中芯在全球的芯片代工市場上實力或將大增 。 未來那個時候的中芯 ， 跟現(xiàn)在的局面多半都不同 。

因此 ， 個人才覺得當下這一項關鍵的技術被突破也是關乎到了中芯以及華為 ， 或者說更多在這方面被限制企業(yè)的命運 。 總而言之 ， 我們也終于是等到了這一天 ， 看到了在EUV光刻機上更大的希望 。 相信 ， 在更多科技人才努力之下 ， 屬于中國制造的EUV光刻機也能很快的面世 。
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