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光刻機(jī)|嘆為觀止！ASML透露尖端光刻機(jī)技術(shù)，難怪我們造不出尖端光刻機(jī)

光刻機(jī)|嘆為觀止！ASML透露尖端光刻機(jī)技術(shù)，難怪我們造不出尖端光刻機(jī)
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光刻機(jī)|嘆為觀止！ASML透露尖端光刻機(jī)技術(shù)，難怪我們造不出尖端光刻機(jī)



近期 ， 荷蘭ASML透露了一段關(guān)于尖端光刻機(jī)的技術(shù) ， 涉及精準(zhǔn)量測、精密機(jī)械、精準(zhǔn)定位、光、磁的掌握 ， 其技術(shù)先進(jìn)程度讓人嘆為觀止 。 首先先介紹一下納米、微米的概念 ， 1 微米 = 1000 納米；而1微米相當(dāng)于1毫米的千分之一 ， 我們一根頭發(fā)約為60～90微米 。


晶圓平臺模組 ， 通過這個模組 ， ASML最先進(jìn)的 DUV 光刻機(jī) ， 每小時可以完成 300 片晶圓的光刻 ， 完成一片晶圓只需要 12 秒 ， 刨除裝載時間 ， 完成 1 個影像單元（Field）的曝光約 0.1 秒 。 平衡模組 ， 晶圓平臺移動時速度為 7g 的加速度 ， 等同于汽車從 0 加速到 100km/h 只需約 0.4 秒 。 為了不引起平臺振動 ， ASML 光刻機(jī)采用了balance mass模組來吸收平衡晶圓平臺所施加于機(jī)座的反作用力 ， 完美平衡 ， 整座機(jī)臺完全靜止 ， 穩(wěn)如泰山 。



極精密量測 ， ASML 光刻機(jī)通過上述模組 ， 可實(shí)現(xiàn)每秒兩萬次量測定位校正 ， 以精度達(dá)到 60 皮米（0.06 納米）的傳感器確認(rèn)精準(zhǔn)定位 ， 套刻精度（overlay） ， 可以達(dá)到 1~2 納米 。 懸浮工作模式 ， ASML 晶圓均采用懸浮技術(shù)進(jìn)行移動 ， 一種為Twinscan XT 氣浮方式 ， 以及最新的Twinscan NXT 磁懸浮方式 。 借由無接觸的移動方式 ， 達(dá)成極高速的運(yùn)動和持久穩(wěn)定的運(yùn)作 。

【光刻機(jī)|嘆為觀止！ASML透露尖端光刻機(jī)技術(shù)，難怪我們造不出尖端光刻機(jī)】

最終實(shí)現(xiàn)365天24小時 ， 每天完成光刻 6000 片以上的晶圓的任務(wù) ， 小編感覺 ， 這應(yīng)該算是目前人類科技的巔峰了吧 。


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