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光刻機|阿斯麥全新光刻機來了,比EUV更先進,每臺售價3億美金

光刻機|阿斯麥全新光刻機來了,比EUV更先進,每臺售價3億美金

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光刻機|阿斯麥全新光刻機來了,比EUV更先進,每臺售價3億美金



荷蘭的阿斯麥又要出光刻機了 , 新機每臺售價3億美元 , 比EUV光刻機更先進 。 芯片技術的關鍵就在于光刻機 , 而目前只有荷蘭的阿斯麥能夠生產高端EUV光刻機 , 這也讓阿斯麥成為名副其實的光刻機巨頭 。

【光刻機|阿斯麥全新光刻機來了,比EUV更先進,每臺售價3億美金】
 
就在最近 , 阿斯麥聲稱即將開發出新一代光刻機 , 名字叫High NA(高數值孔徑) , 據說這種光刻機能夠生產3nm以下芯片 , 且生產出來的芯片面積將縮小1.7 倍 , 芯片密度增加 2.9 倍 。 新光刻機預計每臺售價3億美元 , 到2023年就能夠體驗 。



 
如果阿斯麥的新光刻機研發成功的話 , 就意味著阿斯麥在技術方面與競爭對手的差距將進一步拉大 , 阿斯麥在高端光刻機領域的地位也將進一步鞏固 。




這也給我們提了個醒 , 我國高端光刻機的研發已經迫在眉睫 , 我們只有在新技術沒有出現之前盡力追趕 , 縮小差距 , 才能在未來不會落后于人 , 這關系到我國整個半導體行業的發展 。 不知道大家怎么看?


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