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姚力軍,38位國(guó)千人才扎堆余姚的推手( 二 )

云知道余姚


其中，硅晶圓占比最高為37.6%，電子特氣占比約為13.2%，掩膜版占比約為12.5%，光刻膠占比約為5.4%，CMP拋光材料占比約為6.7%，靶材占比約為2.5%等 。據(jù)SEMI數(shù)據(jù)顯示，2018年全球半導(dǎo)體材料銷(xiāo)售額為519.4億美元，同比增長(zhǎng)10.6%，再創(chuàng)歷史新高 。這主要?dú)w功于已完成投資的半導(dǎo)體工廠開(kāi)始全面運(yùn)營(yíng)，以及由于半導(dǎo)體工藝制程技術(shù)提升，導(dǎo)致材料消耗增多導(dǎo)致 。
同時(shí)，SEMI預(yù)測(cè)2019年全球半導(dǎo)體材料市場(chǎng)的增速約為4%，銷(xiāo)售額有望突破540億美元，而中國(guó)2019年半導(dǎo)體材料銷(xiāo)售額有望突破90億美元 。詳細(xì)來(lái)看，中國(guó)臺(tái)灣擁有全球最大的晶圓代工市場(chǎng)和封裝基地，已經(jīng)連續(xù)10年成為全球最大半導(dǎo)體材料消費(fèi)地區(qū) 。值得一提的是，韓國(guó)、中國(guó)臺(tái)灣、中國(guó)大陸的半導(dǎo)體材料需求增長(zhǎng)最為強(qiáng)勁，2018年增速分別為16%、11%和11%，這意味著，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)有朝著中國(guó)大陸、中國(guó)臺(tái)灣及韓國(guó)轉(zhuǎn)移的趨勢(shì) 。
在這種趨勢(shì)下，從2017年開(kāi)始，國(guó)內(nèi)開(kāi)始大量投建晶圓廠，據(jù)SEMI預(yù)估，2017-2020年全球?qū)⒂?2座新晶圓廠投產(chǎn)，其中26座將坐落在中國(guó)大陸，超過(guò)了市場(chǎng)40%的份額 。晶圓廠的大量投建，將極大增加半導(dǎo)體材料的市場(chǎng)需求，但晶圓制造材料高端產(chǎn)品幾乎都集中在日本、美國(guó)、韓國(guó)及德國(guó) 。其中，日本日本占據(jù)絕對(duì)的主導(dǎo)地位，據(jù)了解，在半導(dǎo)體制造過(guò)程中的19種核心材料中，日本市占率超過(guò)50%的材料就達(dá)到了14種，這還不包括部分輔助材料 。
除了日本以外，美國(guó)、韓國(guó)、德國(guó)等國(guó)家?guī)缀豕戏至巳蚓A制造材料70%以上的市場(chǎng)份額，國(guó)產(chǎn)化率則不到20%，而在技術(shù)壁壘較低的封裝材料領(lǐng)域，國(guó)產(chǎn)化率達(dá)到了30% 。硅晶圓在硅晶圓材料領(lǐng)域，目前市場(chǎng)主流是8英寸及12英寸，國(guó)內(nèi)主要代表企業(yè)有上海新昇、中環(huán)股份、超硅上海、金瑞泓、啟世半導(dǎo)體等 。目前國(guó)內(nèi)8寸硅晶圓的月產(chǎn)能在139萬(wàn)片，12英寸硅晶圓產(chǎn)能為28.5萬(wàn)片 。
【姚力軍,38位國(guó)千人才扎堆余姚的推手】但據(jù)數(shù)據(jù)預(yù)測(cè)2020年國(guó)內(nèi)8英寸硅晶圓需求將達(dá)到172.5萬(wàn)片，12英寸硅晶圓月需求將達(dá)到340萬(wàn)片 。整體來(lái)看，依舊存在供不應(yīng)求的趨勢(shì) 。根據(jù)目前Gartner的數(shù)據(jù)預(yù)測(cè)，2020年全球硅晶圓市場(chǎng)規(guī)模有望達(dá)到110億美元，目前全球前五家硅晶圓廠商占據(jù)了90%以上的市場(chǎng)份額，分別為日本信越、日本SUMCO、中國(guó)臺(tái)灣GlobalWafer、德國(guó)Siltronic和韓國(guó)LGSiltron 。
晶圓制造到底難在哪？或者說(shuō)為何會(huì)被壟斷，這里面除了產(chǎn)能供應(yīng)不足外，最關(guān)鍵的還是技術(shù)，目前國(guó)內(nèi)在8英寸晶圓制造的技術(shù)已經(jīng)非常成熟了，但在12英寸晶圓制造方面，技術(shù)有待提升 。主要源于半導(dǎo)體產(chǎn)品對(duì)晶圓純度要求極高，以及光刻工藝要求較高 。光刻膠由于芯片尺寸越來(lái)越小，對(duì)光刻膠分辨率、對(duì)比度及敏感度要求也越來(lái)越高，從而需要不斷調(diào)整光刻膠的硬度、柔韌性、附著力及熱穩(wěn)定性等多方面的性能，以滿足晶圓制造的需求 。
正因?yàn)檫@種特性，光刻膠的生產(chǎn)工藝越來(lái)越復(fù)雜，純度要求也更高，需要長(zhǎng)期的技術(shù)積累，而中國(guó)在這方面積累比較薄弱 。光刻膠按曝光波長(zhǎng)可分為 G-line、I-line、KrF、ArF d

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