5.減少研磨墊材料的雜質(zhì) ， 以獲得良好的清潔效果
研磨去除率該如何計(jì)算？研磨去除率由相對(duì)速度、壓力以及比例常數(shù)所決定；
相對(duì)速度由CMP設(shè)備的旋轉(zhuǎn)速度所決定；
壓力為CMP設(shè)備上端給予的壓力；
比例常數(shù)基于研磨液及研磨墊 。
因此，可以得出
研磨去除率 = 相對(duì)速度*壓力*比例常數(shù)
▲ CMP設(shè)備拋光示意圖
【氨水作為反應(yīng)物可拆嗎 氨水可以寫成nh4oh嗎】▲ CMP拋光工藝原理示意圖
推薦閱讀
- 拼多多萬(wàn)人拼團(tuán) 拼多多萬(wàn)人拼團(tuán)是什么意思
- 可以作為專利侵權(quán)的抗辯事由是什么
- 要準(zhǔn)備哪些材料作為申請(qǐng)個(gè)人銀行貸款的材料
- 作為上門女婿離婚的時(shí)候財(cái)產(chǎn)怎么分的
- 土地所有權(quán)是否可以作為財(cái)產(chǎn)繼承
- 水壓0.8mpa等于多少公斤 0.8mpa等于多少公斤
- 死亡賠償金能立遺囑的嗎 死亡賠償金可以作為遺產(chǎn)嗎?
- 鴨子吃什么東西 鴨子吃什么東西作為食物
- 我失戀了怎么辦 我失戀了怎么辦呀小度
- 哪些財(cái)產(chǎn)可以去作為遺產(chǎn)，什么財(cái)產(chǎn)可以作為遺產(chǎn)