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導讀：近日 ， 英特爾公布其位于愛爾蘭的Fab 34迎來第一臺EUV光刻系統 ， 同時為下一代光刻機（High NA）準備的D1X工廠舉行擴建儀式 。
圖：正在入廠的部分EUV系統
【英特爾|英特爾歐洲廠喜提2億美元EUV】早在2012年7月 ， 英特爾就向ASML的EUV開發計劃投資了41億美元——其中31億美元用于購買ASML的股票 ， 10億美元用于資助EUV研發 。
有趣的是 ， 盡管制造EUV的ASML位于荷蘭 ， 但這是歐洲晶圓廠有史以來第一次安裝EUV ， 而英特爾愛爾蘭廠也可以說為此等待了10年 。
因為ASML EUV系統的另外兩大“金主”兼客戶是臺積電和三星 ， 和英特爾三家合計占了ASML 2021年營收的84% ， 而此前安裝EUV的先進晶圓廠均位于亞洲和美國 。
據介紹 ， 本次該EUV系統屬于NXE 3000系列 ， 采購均價約為2億美元 ， 用于Intel首個使用EUV的工藝——Intel 4（相當于臺積電4nm） ， 而整座愛爾蘭晶圓廠（Fab 34）總投資達70億美元 ， 是Intel第二座、歐洲第一座EUV工藝晶圓廠 。
圖：EUV光刻系統內部特寫
英特爾稱 ， 這座EUV系統由10萬個零件、3千根電纜、4萬個螺栓組成 ， 此前已經花費18個月的設計和施工來建設容納這座機器的大樓 。
同時 ， 構成該系統的模塊由全球60個地點制造發貨 ， ASML會組裝測試后將其拆解 ， 再運到客戶指定位置 。 而運輸這個龐然大物需要4架波音747貨運飛機滿載 ， 然后陸運部分由35輛卡車分批送入廠房 。
目前 ， 為了光刻機的順利安裝并對英特爾員工進行培訓 ， ASML已經安排超過100名工程師進入該廠進行技術指導 。
圖：為下一代EUV準備的英特爾工廠
而另一臺售價高達3億美元的High NA EUV系統第一臺預計將被英特爾拿到 ， 為它準備的廠房則也在緊鑼密鼓的準備中 。
本周 ， Intel在位于美國俄勒岡的D1X工廠舉辦隆重的Mod3擴建儀式 ， 投資達30億美元 ， 并將其命名為戈登摩爾（英特爾創始人之一）公園 。
圖：兩代EUV系統體積對比
D1X-Mod3的重大意義在于 ， 為工廠增加了2.5萬平米的潔凈室空間 ， 將D1X擴大了20% ， 這便為最終足以搬進ASML的下一代最先進高數值孔徑（High NA）EUV光刻機TWINSCAN EXE:5200 EUV創造必要條件 。
因為和服務Intel 3/4工藝的NXE 3000系列EUV光刻機相比 ， EXE 5200的體積大了很多 ， 突破了D1X原來的“天花板” 。 而這臺機器可以為英特爾18A工藝制程提速 ， 直接對標的是臺積電的2nm 。
而有能力購買并使用它的客戶預計不超過五家 。
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