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近期 ， 關于High-NA光刻機訂單傳出了不少消息 ， 但似乎并沒有ASML說的那么好 。 那么 ， ASML到底公布了哪些訂單消息？在ASML正式唯一確認了訂單的英特爾 ， 為何又有了什么新的表態？
ASML對外公布的訂單信息進入后3nm時代 ， ASML表示 ， 正在與其合作伙伴一起開發下一代High-NA光刻機 ——Twinscan EXE:5000 系列 。 據了解 ， 新High-NA光刻機具有0.55NA（高 NA）的透鏡 ， 分辨率達 8nm ， 將非常復雜、非常龐大且價格昂貴 ， 更有利于3nm及以上制程的工藝制造 。
至于下一代High-NA光刻機的訂單 ， 似乎ASML表態的都較多 ， 但貌似有點模糊 。 早在幾周前 ， 在2022年第一季度的財報上 ， ASML就稱其已經收到了多個客戶的 High-NA Twinscan EXE:5200 系統 (EUV 0.55 NA) 訂單 。
但是 ， 上周ASML接受路透社采訪時 ， 又澄清了一下說辭 ， 表示：公司已經獲得了 5 個 High-NA 產品的試點訂單 ， 預計將于 2024 年交付 ， 并有著“超過 5 個”訂單需要從 2025 年開始交付的量產型號 。
并且 ， ASML對5個試點訂單 ， 做了詳細闡述：包括3個邏輯芯片客戶和2個存儲芯片客戶 。 有意思的是 ， 2020-2021年ASML就開始在說收到了三家客戶的 High-NA 意向訂單 ， 共提供多達 12 套系統 。 但是 ， 截至目前 ， 僅有英特爾的訂單是被確認了的 ， 其余均未有任何的消息 。
就在英特爾被確認使用High-NA光刻機后 ， 其官方又發出了不一樣的表態 。
按照原計劃 ， 英特爾18A節點將于2025 年進入大批量生產 ， 剛好對的上ASML說的2025 年開始交付的量產型號 。 但近期 ， 英特爾方面表示延遲了18A 的生產規劃 ， 預計在2024年下半年才開始規劃 ， 同時表示該節點可以使用 ASML 的 3600D或者3800E來生產 。
很明顯 ， 這與ASML所確定的訂單內容 ， 不太一致 ， 英特爾為何會這樣呢？
英特爾為何會發表新的表態？筆者認為 ， 之所以英特爾會有此表態 ， 并非說更先進的EUV 0.55 NA不夠好 ， 而是新一代的高NA光刻機不一定那么“香” 。 比如技術成熟度還有待檢驗 ， 是否真的那么被需要還不好說 。
這兩點的表現如下：
一、制造出High-NA EUV挑戰不小
EUV光刻機是一個集體智慧的產品 ， 是一個由全球近800家供應商提供高端零配件 ， 且有數十萬個零件組成的大件設備 。 而ASML也僅僅是有著核心技術 ， 組合這些高端零配件的廠家 ， 因此 ， 僅有它一家努力還遠遠不夠的 ， 零配件廠商也需要共同研究更高端的技術 。
以目前來看 ， 要解決的核心問題包含：分辨率的要求要提升 ， 否則會因為隨機現象和圖案崩潰影響良品率；更先進的光源要求 ， 否則無法支持光子散粒噪聲和生產力的要求；需要更高要求的偏振控制 ， 才能在0.55NA下保持高對比度；需要有更先進的計算光刻能力；配套的掩膜制造和計量基礎設施；以及需要大芯片的解決方案 。
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