大致來看 ， 國產光刻膠處于什么水平呢？以南大光電 ， 徐州博康這些國產光刻膠巨頭為例 ， 南大光電自主研發的ArF光刻膠已經通過了自主研發 ， 可用于55nm工藝的光刻膠已經獲得了小批量訂單 。
另外南大光電主要的光刻膠產品包括干式光刻膠和浸沒式光刻膠 ， 是目前國內能實現范圍性批量出貨的光刻膠廠商 。
而徐州博康的光刻膠也在迅速發展 ， 該公司實現光刻膠全產業鏈的自主性布局 ， 在單體材料 ， 專用樹脂等諸多核心領域 ， 均完成了自主化生產作業 。
以上只是國產光刻膠產業鏈布局的冰山一角 ， 還有上海新陽 ， 晶瑞股份等等都在聚焦光刻膠材料的發展 。 也許目前距離日本的EUV高端光刻膠水平還有一段路要走 ， 但是任何的成功都是靠日積月累而來的 。
盡管還有進步空間 ， 不過目前國產光刻膠的水平已經在成熟制程領域有突出表現了 。
相比于高端工藝 ， 成熟制程一樣有很大的布局意義 。 在尚未獲得EUV光刻機之前 ， 不妨揚長避短 ， 做好自己能夠把控的市場 ， 在可控的技術領域加大布局 ， 相信在未來一定能取得更大的成就 。
總結國產芯片領域再“破冰” ， 繼一些國產芯片企業持續深耕之后 ， 科研人員滕超自主攻克重要芯片材料 。 通過這一研究成果也能看出 ， 在取得芯片進步的同時 ， 人才也是必須要把握的 。
將來國內發展芯片還會面臨大量的人才缺口 ， 希望能有更多像滕超這樣的人才取得突破 ， 為國產芯片的發展做出貢獻 。
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