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光刻機(jī)是干什么用的只有荷蘭做的出來(lái)拿 光刻機(jī)是干什么用的

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光刻機(jī)是干什么用的只有荷蘭做的出來(lái)拿 光刻機(jī)是干什么用的

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光刻機(jī)是干什么用的只有荷蘭做的出來(lái)拿 光刻機(jī)是干什么用的

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光刻機(jī)（baiMask Aligner)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等 。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻 ， 所以叫Mask Alignment System 。是指在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過(guò)程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上的過(guò)程 。
一、用途
光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)；有用于封裝的光刻機(jī)；還有用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī) 。
用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)是中國(guó)在半導(dǎo)體設(shè)備制造上最大的短板，國(guó)內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口，本次廈門企業(yè)從荷蘭進(jìn)口的光刻機(jī)就是用于芯片生產(chǎn)的設(shè)備 。
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二、工作原理
在加工芯片的過(guò)程中，光刻機(jī)通過(guò)一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過(guò)畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差 ， 將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖 。
一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序 。經(jīng)過(guò)一次光刻的芯片可以繼續(xù)涂膠、曝光 。越復(fù)雜的芯片，線路圖的層數(shù)越多 ， 也需要更精密的曝光控制過(guò)程 。
光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)：
1、測(cè)量臺(tái)、曝光臺(tái)：是承載硅片的工作臺(tái) 。
2、激光器：也就是光源，光刻機(jī)核心設(shè)備之一 。
3、光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行 。
4、能量控制器：控制最終照射到硅片上的能量，曝光不足或過(guò)足都會(huì)嚴(yán)重影響成像質(zhì)量 。
5、光束形狀設(shè)置：設(shè)置光束為圓型、環(huán)型等不同形狀，不同的光束狀態(tài)有不同的光學(xué)特性 。
6、遮光器：在不需要曝光的時(shí)候 ， 阻止光束照射到硅片 。
7、能量探測(cè)器：檢測(cè)光束最終入射能量是否符合曝光要求 ， 并反饋給能量控制器進(jìn)行調(diào)整 。
8、掩模版：一塊在內(nèi)部刻著線路設(shè)計(jì)圖的玻璃板，貴的要數(shù)十萬(wàn)美元 。
9、掩膜臺(tái)：承載掩模版運(yùn)動(dòng)的設(shè)備，運(yùn)動(dòng)控制精度是nm級(jí)的 。
10、物鏡：物鏡用來(lái)補(bǔ)償光學(xué)誤差，并將線路圖等比例縮小 。
11、硅片：用硅晶制成的圓片 。硅片有多種尺寸 ， 尺寸越大 ， 產(chǎn)率越高 。題外話，由于硅片是圓的，所以需要在硅片上剪一個(gè)缺口來(lái)確認(rèn)硅片的坐標(biāo)系，根據(jù)缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、notch 。
【光刻機(jī)是干什么用的只有荷蘭做的出來(lái)拿 光刻機(jī)是干什么用的】12、內(nèi)部封閉框架、減振器：將工作臺(tái)與外部環(huán)境隔離，保持水平，減少外界振動(dòng)干擾，并維持穩(wěn)定的溫度、壓力 。

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