芯片|取代光刻機！又一芯片制造新技術誕生，可量產5nm芯片？光刻機|納米|it芯片|重器

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芯片制造一直遵循傳統的生產方式，采用光刻機造出一顆顆精密的芯片。唯一的區別就是光刻機波長和制程的變化。從第一代g-line光源開始，到目前最先進的EUV設備，波長已經壓縮到13.5nm 。
不管如何變化，使用光刻機造芯片已經是司空見慣了。但日本企業似乎研制出新的技術，或要采用該技術實現逆襲。這是什么技術呢？能否量產5nm芯片？
芯片制造新技術世界各國都開始加快芯片制造產業的步伐，從微米到納米，從90納米到現在的5納米制程時代。而且芯片制造商還在突破，芯片巨頭聯發科已經發布了4nm天璣9000芯片，未來恐怕還將取得更大的突破。
這一切的突破其實都離不開光刻機，只有通過光刻機的曝光，才能將設計好的芯片電路圖刻制在晶圓上，從而分割成一塊塊芯片。
因此光刻機成為了芯片制造不可或缺的設備，但光刻機的劣勢也很明顯。設備過于笨重，一臺EUV光刻機重達180噸，由10萬個零部件組成，生產難度非常高。還有耗電量也是十分驚人的，一臺EUV光刻機一天就能耗電3萬度。
未來發展的是清潔能源，很明顯， EUV光刻機雖然十分先進，但并不環保。最重要的是，摩爾定律已經接近極限，如果EUV光刻機無法突破更先進的技術，芯片制造產業該如何發展？
在這樣的情況下，日本企業出手了，又一芯片制造新技術誕生，怎么回事呢？
據日媒介紹，日本要用“納米壓印”技術實現逆襲，鎧俠、佳能、大日本印刷最早會在2025年將這一技術實現實用化。
這項技術也就是納米壓印，從字面意思來看，是通過納米級別的技術，對相關芯片線路圖以壓印的方式實現芯片線路圖曝光。原理就好比用一枚印章在紙張上印字。
原理看似簡單，但實現起來估計也不是那么容易的。
大致情況是先準備壓印設備，然后通過紫外線照射的方式，把掩膜上的芯片線路壓印至光刻膠。經過光刻膠的涂抹和襯底作用，最終將完整的芯片線路圖弄到硅基晶圓中，在把晶圓切割成芯片。整個的納米壓印技術基本上就是如此。
說起來簡單，但做起來卻不是一時半會能夠完成的。日企提出了這項技術，并計劃在2025年實現，很大程度說明日本半導體打算重振芯片制造產業鏈。
日媒還提到，世界各國半導體廠商也在關注納米壓印，但由于日企掌握相關設備和原材料，因此暫時走在前頭，一旦實現實用化，也是世界首次。
理論上而言，納米壓印技術確實有望實現芯片制造，如果到時候相關設備生產成功，取代光刻機也未必不可能。
納米壓印技術的優勢芯片制造發展了幾十年，人類從研發出微電子處理器以來，也有半個世紀的歷史了。自從日本佳能，尼康以及ASML掌握光刻機制造技術后，全球半導體行業就沒有使用光刻機以外的設備曝光芯片。在芯片的曝光環節，必須用上光刻機，這已經成為行業的共識。