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微弧氧化的影響因素


微弧氧化的影響因素


1、工件材質(zhì)及表面狀:微弧氧化對鋁材要求不高,不管是含銅或是含硅的難以陽極氧化鋁合金,只要閥金屬比例占到40%以上,均可用于微弧氧化,且能得到理想膜層 。表面狀態(tài)一般不需要經(jīng)過拋光處理,對于粗糙的表面,經(jīng)過微弧氧化,可修復(fù)的平整光滑;對于粗糙度低的表面,則會增加粗糙度 。
【微弧氧化的影響因素】2、液體成分對氧化造成影響:電解液成分是得到合格膜層的關(guān)鍵因素 。微弧氧化液一般選用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液,如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等 。在相同的微弧電解電壓下,電解質(zhì)濃度越大,成膜速度就越快,溶液溫度上升越慢,反之,成膜速度較慢,溶液溫度上升較快 。
3、溫度對微弧氧化影響:微弧氧化與陽極氧化不同,所需溫度范圍較寬 。由于微弧氧化以熱能形式釋放,所以液體溫度上升較快,微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度 。

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