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期待華為王者歸...,華為光刻機( 二 )

云知道王者


中國前人們早已講出一個道理、“聞道有先后 ， 術業有專攻” 。在國內 ， 之前有位專業人士在網上發表過自己的看法 ， “芯片制造是整個IT行業的基礎 ， OS的設計實踐與芯片息息相關 ， 如果一國之IT行業有高端芯片制造能力 ， 必然在發展過程中有足夠的機會形成底層軟件的研發能力” 。該專業人士進一步指出 ， “所以對于一國之IT產業而言 ， 如果芯片制造工藝不行 ， 相當于發動機造不出來 ， 技術自然備受限制 ， 高超不到哪里去” 。
上文已經說到 ， 華為幾乎不可能投入大量的資源自主研發光刻機 ， 而國內科研機構卻可以 ， 也應該對光刻機展開探索和研發 ， 以便全方位地掌握光刻機的制造原理和核心技術 。光刻機的英文稱謂為Mask Aligner 。從狹義上講 ， 光刻技術的大意是 ， 廠商運用光化學等原理和一整套的方法 ， 把掩模版上的設計圖形“復制”到硅晶圓等基板上的工藝技術 ， 該原理與照相有些相似 ， 即硅晶圓片與光刻膠大體相當于是照相底片與感光涂層 。
華為多久能造出光刻機？

期待華為王者歸...,華為光刻機


問華為多久能造出光刻機 ， 一定是跟華為自建芯片生產線有關 。華為自造光刻機是不是多此一舉？華為如果現在就開始自建芯片生產線 ， 應該是利用國內現有國產的上海微電子低端光刻機吧？肯定更拿不到ASML的高端光刻機 ， 肯定不會在自己現造出來光刻機之后才自建芯片生產線；華為如果與此同時自己開始制造光刻機 ， 應該比上海微電子從成立之年2002開始造首臺90納米光刻機所用的6年時間短 ， 夸張地說3年 ， 請問 ， 到時候造出的會是多少納米的光刻機？應該也是低端的 ， 比如90納米 ， 估計一下子不可能造出28納米的 ， 然而 ， 不是說明年或者后年上海微電子就能推出自主制造的28納米光刻機嗎？雖然還是大大落后 ， 那么 ， 華為會多久能造出高端的光刻機 ， 比如7納米？可能不需十年 ， 而那時 ， 上海微電子造出的光刻機應該會達到多少納米了？應該至少7納米 。
當前現實和未來形勢可謂一目了然 ， 關鍵是國內達到了自主可控 ， 鑒于此 ， 華為會怎么想、怎么做？答案不言自明 ， 只因為不自造光刻機是個明擺著的省人省心省錢省時的事 。華為制造光刻機是不是真的板上釘釘了？該問認為是真的 ， 所以一上來就問多久能造出 ， 只不過沒問能造出多少納米的 。這應該是依據近來網上不少人的認為 。近來網上一些人把華為自造光刻機這個事說得真真切切 。
舉出的主要證據有3個 ， 一是有人在網上曝光華為在2016年取得的光刻設備和系統發明專利 ， 認為那是一項職務發明 ， 應該是基于研發 ， 而研發則肯定應該是在2016年的前幾年就開始了 ， 比如3年前 ， 至今已經8年；二是有人見到華為招聘光刻工藝工程師 ， 還聽說以前就在招聘 ， 即這樣的工程師華為以前就有 ， 應該已經成了群；三是有人說華為將采用IDM模式 ， 建立3條芯片生產線 ， 其中的1條立馬可用 。
當然 ， 對這些證據質疑和根本就不信的人也不少 ， 而且也有證據 ， 華為研發光刻機技術既然至今已經8年了 ， 那為什么還沒有形成可以立馬轉正的備胎——光刻機設備？至少表明主要是以基礎性研發為主 ， 基本目的是作技術積累 ， 也的確有了積累 ， 那個發明專利可證明 ， 但實際上投入的人力物力財力并不多 ， 積累的技術也就并不多 ， 這是因為華為沒有料到會這么快芯片代工渠道就被全部切斷了 。

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