【佳能9月啟用新光刻機工廠，主要面向成熟制程及封裝應用】
7月31日消息 ， 據《日經新聞》報道 ， 日本相機、打印機、光刻機大廠佳能（Canon）位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于9月正式投入量產 ， 主攻成熟制程及后段封裝應用設備 ， 為全球芯片封裝與成熟制程市場提供更多設備產能支持 。
據介紹 ， 這座新工廠是佳能在2023年開始動工建設的 ， 并可能使用自家開發的Nanoimprint（納米壓?。 ┘際?， 總投資額超過500億日元 ， 涵蓋廠房與先進制造設備 。 新廠面積達6.75萬平方公尺 ， 投產后將使光刻設備總產能提升50% 。
目前 ， 荷蘭ASML 幾乎壟斷了全球90%以上的光刻機市場 ， 不僅面向先進制程的浸沒式DUV光機市場 ， ASML幾乎獨占 ， 在極紫外光（EUV）光刻機領域更是只有ASML一家供應商 。
但是 ， 在成熟制程（I-line和KrF)及先進封裝光刻機領域 ， 佳能仍有一席之地 。 特別是后段制程設備 ， 約占其總銷售額的30% ， 主要供應臺積電等封裝客戶 ， 用于中介層與多芯片模塊制作 ， 與ASML 在市場定位上并不直接競爭 ， 而是專攻ASML 不重視的市場 。
隨著AI 芯片推動CoWoS 與多芯片封裝需求持續攀升 ， 佳能在封裝光刻機領域的技術優勢有望持續受益 。 新廠投產將有助于佳能在全球光刻機市場中穩固既有優勢 ， 并為AI 與先進封裝需求提供更靈活的產能應對 。
編輯：芯智訊-林子
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