▲中國光刻 。中國目前光刻機技術最強的是上海微電子，生產(chǎn)的光刻機在90nm階段，處于光刻機技術的最后一檔 。就是說只要美國干預，中國將無法獲得EUV光刻機 。90年代末，光刻機的光源采用的是193納米的氟化氬激光 。中國每突破一極限，美國為代表的西方國家，即開始對中國出口相關產(chǎn)品，成為規(guī)律，誰不掙錢都著急，2015年剛說要將65納的設備給我們，今年阿斯麥就宣布，7納的光刻機對中國一視同仁，嘻嘻，謝謝您的仁慈，誰都能聽出來，中國沒有的話，實事上根本不可能，不少噴子納悶極了，我們的進步，有這么快？，由不得你眨下眼睛 。
5納米芯片意味著什么？
前段時間，“芯片”問題因為光刻機的供應商著火又再一次進入大眾的視野，尤其是杜宇7nm芯片的可望而不可得的情緒更是讓人很無奈，說到納米級芯片，可能還需要大家了解下芯片的知識 。那么芯片到底是什么呢？其實芯片就是集成電路，或者叫微電路，就是裝有集成電路的硅片，說得更直白一點，芯片就像人體的大腦和心臟，這么說就大家就能明白芯片的作用吧 。
科研人員用來衡量一個芯片科技含量水平的標準就是納米級，當前在世界范圍內(nèi)通行的是10納米級別的芯片，當然具有最權(quán)威的光刻機制造廠商已經(jīng)具有制造出7納米級別的芯片 。所以，5納米芯片意味著什么呢？意味著全球最先進的制造廠商制造的芯片和它還有2納米的差距 。不過也不用悲觀，現(xiàn)在很多國家已經(jīng)開始著手研究5納米級別的芯片，等個一年半載就應該能夠面世 。
中國能做3納米的光刻機嗎？
一、中國目前的技術在90nm，最先進的ASML也是5nm，3nm無人能造首先回答問題，那就是不能，目前中國量產(chǎn)的光刻機技術是90nm，90nm之后還有N個臺階，離3nm的差距，至少是10年起步 。中國目前光刻機技術最強的是上海微電子，生產(chǎn)的光刻機還在90nm階段，處于光刻機技術的最后一檔 。如上圖所示，中國的SMEE處于低端，也就是90nm，而日本canno也處于這一檔，而Nikon處于7-28nm 。
而技術最強的ASML目前的技術是5nm/7nm技術，也沒有3nm技術，所以現(xiàn)在說3nm真的是太早太早了 。二、光刻機的核心技術是什么，為何這么難？那么光刻機的核心技術是什么，為何這么難？其實從元件來看，核心元件是鏡頭，因為光刻機的原理是放大的單反，用光把電路圖刻畫在硅片上，一次又一次，一層又一層的刻畫 。
【國產(chǎn)90納米光刻機有用嗎,中國首臺5納米光刻機】中國的光刻機現(xiàn)在達到多少納米了？
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