突破!首臺國產商業電子束光刻機誕生,0.6nm精度,比肩國際主流

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傳統芯片產業的聚光燈一直以來是打在ASML的極紫外光刻機上的 , 但中國科學家在另一個關鍵賽道繼續實現突破 。
就在8月15日 , 杭州市科技局發布 , 首臺國產商業化電子束光刻機在杭州正式亮相了!



作為一直盼著咱們國家在芯片設備領域突破的人 , 我看到這消息的時候 , 一如既往地為國產技術突破而激動 。
這臺叫 “羲之” 的設備 , 是浙江大學余杭量子研究院自己研發的 , 已經完成研發進入應用測試階段 。
“羲之” 乍一看像個大型鋼柜 , 卻是個實打實的 “高精尖” 家伙 。


【突破!首臺國產商業電子束光刻機誕生,0.6nm精度,比肩國際主流】
據悉 , 該設備是新一代100kV電子束光刻機 , 專門攻克量子芯片、新型半導體研發的核心環節 。
最厲害的是它的精度 , 能達到0.6納米 , 線寬只有8納米 ,
相當于把一根頭發絲縱向劈成十萬份的細致程度 。 感覺這水平已經能和國際主流設備比肩了 。



更牛的是 , 它不用掩模版 , 還能多次修改設計 , 就像在硅基上 “手寫” 電路一樣靈活 。
說起來 , 傳統光刻機雖然也重要 , 但在芯片研發初期 , 電子束光刻機的優勢就太明顯了 。
芯片研發的時候 , 得設計好多版型、圖案 , 經常要一條線一條線地改 。 以前用傳統設備 , 改起來又麻煩又費時 , “羲之” 就不一樣了 , 精度高還 “書寫” 便捷 , 能大大提升反復調試的效率 。
這就好比咱們寫文章 , 以前改個字不能涂涂抹抹得重新抄一遍 , 現在電腦一個刪除就搞定 , 效率是完全不一樣的 。
最讓我提氣的是 , 以前這種先進的電子束光刻機設備 , 國外對咱們搞出口管制 , 國內頂尖的科研機構和企業想買都買不到 , 處處受牽制 。
芯片產業有多重要不用我說 , 設備被禁運 , 研發就很難往前推進 。 現在 “羲之” 落地 , 為我國產業突破添磚加瓦 。
據報道 , 目前已經有國內企業和不少科研機構找過來接洽了 , 想想都覺得振奮 。



所以在我看來 , 其戰略價值遠不止于此 。
首先 , 它證明了避開傳統光刻技術壁壘的可行性;
其次 , 為“中國芯”提供了自主迭代的研發工具鏈;
更重要的是 , 這種“從研發端反向滲透制造端”的路徑 , 或許能走出一條不同于摩爾定律的芯片創新之路 。
總體來說 , 有了這個開端就是繼續前進的底氣 。 而且既能幫國內的科研機構和企業降低研發成本、加快研發進度 , 還能帶動整個產業鏈的發展 , 培養更多相關的技術人才 。
相信未來會有更多像 “羲之” 這樣的國產高端設備出現 , 讓咱們在科技領域真正挺直腰桿 , 不再受制于人 。



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