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中國最強光刻機廠商：離浸潤式DUV，僅一步之遙了

光刻機

中國最強光刻機廠商：離浸潤式DUV，僅一步之遙了

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中國最強光刻機廠商：離浸潤式DUV，僅一步之遙了

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目前芯片制造流程中 ， 光刻工藝是最復雜 ， 耗時最長 ， 成本最高 ， 也是最為核心的工藝 ， 而光刻則需要光刻機 。
而光刻機 ， 主要掌握在ASML的手中 ， 一家占了全球90%左右的份額 。
特別是EUV光刻機 ， 全球僅它一家能夠制造 ， 像浸潤式DUV光刻機 ， 實際上也是ASML為王 ， 尼康雖然有 ， 但份額非常低 。

所以 ， 全球的芯片制造企業 ， 都得看ASML的臉色 ， 一旦ASML卡住光刻機 ， 大家都得抓瞎 。
不過 ， 好消息是 ， 目前國產光刻機廠商們 ， 也在努力 ， 從實際情況來看 ， 離浸潤式DUV ， 其實也就只有一步之遙了 。
目前國內最強的光刻機廠商 ， 是上海微電子 ， 成立于2002年 ， 至今已經有23年的歷史了 。

在其官網上 ， 大家可以查到 ， 公布出來的最強的光刻機是SSX600系列 ， 可以用于90nm、110nm、280nm關鍵層和非關鍵層的光刻工藝 ， 可以用于8寸 ， 12寸 。
這種光刻機 ， 其它也屬于干式DUV的一種 ， 采用的是193nm的光線 。 DUV單次曝光下 ， 理論上是達到65nm的 ， 但可以通過多次曝光 ， 最高實現28nm工藝 。

而干式DUV的下一步 ， 就是浸潤式DUV ， 浸潤式DUV與普通干式DUV ， 唯一的區別就是多了一個浸潤式系統 。
【中國最強光刻機廠商：離浸潤式DUV，僅一步之遙了】何為浸潤式系統 ， 簡單的來理解 ， 就是光線在照射硅片前 ， 會進入一層水的介質 ， 光線進入水之后 ， 會產生折射 ， 193nm波長的光線 ， 就相當于134nm了 。
波長越短 ， 分辨率就越高 ， 所以浸潤式光刻機 ， 可以實現從65nm-5nm芯片的制造 。

很明顯 ， 上海微電子的光刻機技術 ， 其實在光源等上 ， 與浸潤式DUV是相同的 ， 就差了這個浸潤式系統 ， 所以我說是最后一步了 。
當然 ， 這一步并不容易 ， 因為浸潤式系統 ， 不只是加一層水那么簡單 ， 需要控制光線的投射 ， 還要控制光線的方向 ， 然后再讓經過水的光線去照片硅晶圓……
但不管怎么樣 ， 我們相信接下來 ， 先不說EUV光刻機 ， 至少浸潤式光刻機離我們不會太遠了 ， 一旦突破 ， 我們進入5nm就毫無困難了 。

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