黃仁勛站臺,臺積電美工廠造出首片英偉達Blackwell晶圓

黃仁勛站臺,臺積電美工廠造出首片英偉達Blackwell晶圓
當地時間10月17日 , 英偉達創始人兼首席執行官黃仁勛到訪臺積電位于美國亞利桑那州鳳凰城的半導體制造工廠 , 慶祝首片NVIDIA Blackwell晶圓在美國本土下線 , 這標志著英偉達Blackwell已實現量產 。
圖片來源:英偉達
在慶典現場 , 黃仁勛與臺積電運營副總裁王永利共同在晶圓上簽名 , 意味著英偉達最新一代AI核心芯片正式在美國本土進入量產階段 。
Blackwell是英偉達迄今為止最先進的AI芯片與超級計算平臺 , 采用臺積電4NP工藝制造 , 由Blackwell GPU、Grace CPU、NVLink交換機等構成 , 擁有2080億個晶體管 , 同時配備192GB HBM3E顯存并支持第五代NVLink技術(1.8TB/s雙向帶寬) 。
據介紹 , 晶圓(半導體的基礎材料)將經過分層、圖案化、蝕刻和切割等復雜工藝 , 最終成型為基于NVIDIA Blackwell架構提供的超高性能、可加速AI運算的芯片 。
【黃仁勛站臺,臺積電美工廠造出首片英偉達Blackwell晶圓】英偉達表示 , 未來 , 臺積電亞利桑那工廠將生產包括2納米、3納米和4納米芯片以及A16芯片在內的先進技術 , 這些芯片對于人工智能、電信和高性能計算等應用至關重要 。

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