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英特爾前CEO進軍光刻機：打造全新EUV光源，性能提高10倍！

芯片光刻機英特爾

英特爾前CEO進軍光刻機：打造全新EUV光源，性能提高10倍！
初創公司xLight 是一家專注于芯片光刻技術的企業 ， 其核心計劃是為極紫外光刻（EUV）設備打造基于自由電子激光器（FEL）的新型光源 。 與傳統技術路徑不同 ， 該公司將采用粒子加速器產生高能電子束 ， 進而激發極紫外光子 。 據稱 ， 這種技術方案的效率將遠超目前主流的激光等離子體（LPP）方案 。 值得關注的是 ， 這也是美國本土初創企業首次涉足該細分領域 。
英特爾前 CEO 帕特?基辛格（Pat Gelsinger）離開英特爾后于2025 年 3 月正式加入 xLight 擔任執行董事長 ， 2025 年 7 月 ， xLight 完成 B 輪融資 ， Gelsinger 以雙重身份 (執行董事長 + 投資人) 參與 。 近日Gelsinger 更是牽頭促成了美國聯邦激勵資金 。
xLight 擬推 FEL 基 EUV 新光源 ， 效率據稱超傳統方案
自特朗普政府執政以來 ， 芯片行業的戰略重要性顯著提升 ， 這也使得該領域備受關注 。 美國政府一方面推動臺積電等芯片制造商加大在美投資 ， 另一方面也向英特爾等企業注資 ， 以保障美國技術優勢 。 如今 ， 美國商務部似乎正計劃為有望強化本土芯片制造能力的企業提供支持—— 初創公司 xLight 便憑借《芯片與科學法案》（CHIPS Act）獲得了 1.5 億美元聯邦激勵資金 。
“重振摩爾定律、重奪美國在光刻光源領域的領導地位 ， 這是一個千載難逢的機遇 。 在聯邦政府的支持下 ， xLight 將把機遇轉化為現實 。 打造一款能效較現有技術提升十倍的高效 EUV 激光器 ， 不僅將開啟摩爾定律的下一個時代、提升晶圓廠產能 ， 更將構建關鍵的本土技術能力 。 ”xLight 董事會執行主席帕特?基辛格表示 。
光刻領域的專業玩家本就寥寥無幾 ， 因此該細分賽道涌現的每一家初創公司都會吸引行業高度關注 。 另一個典型案例是 Substrate 公司 ， 該公司宣稱將采用更短波長的 X 射線進行芯片圖形化 ， 并獲得了彼得?蒂爾旗下創始人基金（Founders Fund）的投資 。 而 xLight 則將在奧爾巴尼納米技術園區（Albany Nanotech Complex）合作伙伴的支持下 ， 全力推進 FEL 基光源的研發 。
不過 ， xLight 目前仍面臨多重挑戰：即便成功研發出適用于 EUV 設備的 FEL 光源 ， 仍需與阿斯麥（ASML）現有的 EUV 產品進行集成 。 這不僅是一項耗資巨大的工程 ， 還可能面臨這家荷蘭光刻機巨頭不愿嘗試 FEL 技術的風險 。 此外 ， FEL 光源雖已實現科研級性能 ， 但在高產量制造場景下的實用性仍存在不確定性 。

【英特爾前CEO進軍光刻機：打造全新EUV光源，性能提高10倍！】光刻技術無疑是美國芯片行業的關鍵瓶頸—— 美國本土晶圓廠目前完全依賴阿斯麥的 EUV 設備 。 xLight 與 Substrate 兩家公司在芯片光刻領域的突破嘗試備受矚目 ， 盡管從紙面規劃來看 ， 兩家企業都展現出了十足的信心 ， 但最終能否攻克技術難關、實現產業化落地 ， 仍有待觀察 。

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