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光刻機是生產(chǎn)制造芯片的必要設(shè)備，美一直都在限制ASML出貨先進的EUV光刻機，由于光刻機過于復雜，ASML曾表示，給中國圖紙其也不能復制出來。
因為ASML的光刻機融合了全球超40個國家的尖端技術(shù)，供應商更是超過了數(shù)百家。
但實際情況并非ASML所說的那么難，全球四大光刻機廠商中，上海微電子就是其中之一，而其研發(fā)制造的后道封裝光刻機，占領(lǐng)了全球四成的市場。

去年末，上海方面對外宣布，國產(chǎn)90nm光刻機取得突破；上海微電子28nm精度的光刻機取得技術(shù)驗證。
專業(yè)人士表示，在多次曝光工藝下，90nm光刻機可將芯片制程縮小至7nm，而ASML DUV光刻機的精度為38nm,多次曝光后，可將芯片制程縮小至7nm 。
上海微電子宣布國產(chǎn)光刻機取得突破的消息后，ASML突然出現(xiàn)了一個奇怪的現(xiàn)象，那就是堅持向國內(nèi)出貨，不聽美勸。

例如，美出臺政策限制相關(guān)芯片企業(yè)出貨，但ASML表示該政策對光刻機出貨的影響是有限的，因為ASML光刻機中使用美元器件的數(shù)量是有限的。
隨后美又對ASML進行游說，希望其收緊國際主流光刻機的出貨范圍，結(jié)果直接被ASML給拒絕了。
無奈的美，其聯(lián)合日荷簽訂了三方協(xié)議，通過荷蘭限制ASML出貨先進光刻機。
結(jié)果ASML不僅率先透露的三方協(xié)議達成的消息，還表示立法落地需要時間，預計6月份可能開始，這無疑是提醒廠商下單。

另外，ASML還通過官網(wǎng)表示，三方協(xié)議限制了2000i及后續(xù)型號的DUV光刻機，1980Di型號的DUV光刻機將會持續(xù)出貨，其在多重曝光工藝下，可將芯片制程縮小至7nm 。
ASML總裁在參加中國高層發(fā)展論壇時強調(diào)，如果不是瓦森納協(xié)定，中國將會成為EUV光刻機最大的市場。
也就是說，ASML不再夸下?？谡f中國造不出先進的光刻機，而是堅持向國內(nèi)出貨。
ASML之所以態(tài)度大變，就是國內(nèi)光刻機突破速度超出預期，ASML擔憂徹底失去國內(nèi)市場。

要知道，國內(nèi)市場是全球最大的芯片消費市場，每年進口芯片總額超過4000億美元，芯片規(guī)則修改，更多芯片開始在國內(nèi)制造，目標是七成芯片在國內(nèi)生產(chǎn) 。
巨大的芯片生產(chǎn)需求，自然就需要更多的光刻機，ASML不堅持出貨，就會失去大量的市場。
另外，國內(nèi)光刻機等技術(shù)進步很快，90nm已經(jīng)取得突破，28nm精度的光刻機也得到技術(shù)驗證，華為、西工大等還全力突破更先進的光源技術(shù) 。
這意味著ASML在國內(nèi)的必然會一步步被蠶食。

更何況，硅芯片已經(jīng)將近極限，越來越多的廠商都在研發(fā)量子芯片、光電芯片等，荷蘭也投資11億歐元研發(fā)光電芯片技術(shù) 。
但光電芯片和量子芯片技術(shù)，國內(nèi)目前都有領(lǐng)先優(yōu)勢，還能夠繞開ASML的光刻機。
【國產(chǎn)光刻機最新進展國產(chǎn)光刻機可以達到多少納米】總結(jié)一下就是，國內(nèi)光刻機突破速度很快，量子芯片和光電芯片時代又在到來，ASML為了市場份額，不得不堅持出貨。