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芯片|中國芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈的重大突破,5nm設(shè)備將發(fā)給臺積電

芯片|中國芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈的重大突破,5nm設(shè)備將發(fā)給臺積電

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芯片|中國芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈的重大突破,5nm設(shè)備將發(fā)給臺積電

據(jù)悉中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司制造的5nm刻蝕機已完成量產(chǎn)準(zhǔn)備 , 下半年就將交付給臺積電投入使用 , 這是國產(chǎn)芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈的又一個重大突破 。

由于眾所周知的原因 , 當(dāng)下芯片制造方面對光刻機的關(guān)注度最高 , 但是由于種種原因 , 中國在獲取先進光刻機方面面臨困難 , 中國的芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈并未因此而氣餒 , 反而通過它們的共同努力 , 在現(xiàn)有基礎(chǔ)上進行點突破 。
刻蝕機正是中國在芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈中進展最快的環(huán)節(jié) , 其他環(huán)節(jié)如今才剛進展到14nm , 光刻機更是還在攻堅28nm , 而刻蝕機已完成7nm工藝 , 如今再進一步到5nm工藝 , 刻蝕機可謂是中國芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈最成功的技術(shù)創(chuàng)新 。
其實刻蝕機與光刻機都是芯片制造中最重要的兩大環(huán)節(jié)之一 , 在芯片制造當(dāng)中 , 光刻機將芯片線路刻畫出來 , 刻蝕機則將光刻機刻畫的線路圖以物理或化學(xué)方法去掉硅片的多余部分 , 從而將晶片的線路凸顯出來 。
據(jù)業(yè)界人士指出芯片制造中的光刻機成本占近三成 , 而刻蝕機的成本占20%-27%左右 , 可以說刻蝕機是僅次于光刻機的重要芯片制造設(shè)備 , 由此可見中國取得刻蝕機的突破已是芯片制造的巨大進步 。

中國芯片制造各個行業(yè)如今都在極力依靠現(xiàn)有的基礎(chǔ)發(fā)展芯片制造 , 在芯片產(chǎn)能方面 , 當(dāng)前國產(chǎn)芯片制造主要基于14nm及更成熟工藝滿足國內(nèi)的需求 , 業(yè)界人士認(rèn)為14nm就能滿足國內(nèi)七成的需求 。
由于當(dāng)下全球芯片市場進行下行階段 , 企業(yè)對于成本的控制更加嚴(yán)格 , 以外地催熱28nm及更落后工藝 , 因為這些工藝更成熟、成本更低、可靠性更高 , 由此中國三大芯片代工廠反而成為受益者 , 2021年中國三大芯片代工廠的營收增速居于第一 , 超過了臺積電 。
【芯片|中國芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈的重大突破,5nm設(shè)備將發(fā)給臺積電】眼見著成熟工藝得到芯片行業(yè)的青睞 , 擁有5nm等先進工藝制程的臺積電如今又反過來擴張28nm工藝產(chǎn)能 , 試圖與中國大陸的三大芯片制造企業(yè)競爭 。 但是對于芯片行業(yè)來說 , 先進工藝畢竟是未來 , 為此中國的芯片產(chǎn)業(yè)鏈仍然需要加快先進工藝的發(fā)展 。
中國在刻蝕機方面所取得的進展 , 證明了芯片制造設(shè)備其實并非不可突破的技術(shù) , 刻蝕機的快進步將促使中國芯片產(chǎn)業(yè)鏈加速技術(shù)研發(fā) , 可以預(yù)期中國的芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈遲早能打破當(dāng)下的桎梏 , 實現(xiàn)完全自主研發(fā) 。

面對著中國在芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈方面的突破 , 擁有先進光刻機的ASML已經(jīng)有點著急了 , ASML的高管早就表示限制對中國出貨光刻機無助于全球芯片供應(yīng)鏈的良性發(fā)展 , 中國遲早能打破技術(shù)局限 , 而中國在刻蝕機方面的突破無疑印證了ASML的預(yù)測 , 而ASML也開始加大對中國出貨光刻機的力度 , 希望在這個市場獲得更多的利益 。

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