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一個(gè)好消息 , 國產(chǎn)光刻機(jī)又有新的重大突破 , 一項(xiàng)關(guān)鍵的核心技術(shù)即將被解決 , 我們距離自己的EUV光刻機(jī)又近了一步 。 也怪不得ASML現(xiàn)在越來越著急了 , 我們所突破的光刻機(jī)技術(shù)越來越多 , 核心技術(shù)也有所進(jìn)展 , 雖然目前對(duì)ASML的并沒有多大威脅 。
但隨著時(shí)間流逝 , ASML已經(jīng)感覺到越來越沉重的壓力了 。
ASML的著急
前幾年還在說就算給我們圖紙也造不出來光刻機(jī)的ASML , 今年卻一反常態(tài) , 對(duì)我們開始玩起了“傾銷” 。 數(shù)據(jù)顯示 , 今年第一季度 , ASML向我們出口光刻機(jī)數(shù)量21臺(tái) , 占到其總銷量的34% , 我們也首次成為了ASML的最大出貨市場 。
過去 , ASML向DL出貨的光刻機(jī)數(shù)量總共也就50多臺(tái) , 可以說是相當(dāng)“摳門” 。 結(jié)果今年光是第一季度就出貨21臺(tái) , 這是想開了?不 , 無事獻(xiàn)殷勤 , 必然是沒安好心 。
ASML向我們出售的都是老舊型號(hào)的DUV光刻機(jī) , 要么是我們能造的 , 要么是我們很快就能造的那種 。 ASML選擇這個(gè)時(shí)候出售 , 其實(shí)就是在變相打壓國產(chǎn)光刻機(jī) 。
除了向我們大量出售DUV光刻機(jī)之外 , ASML還決定擴(kuò)大國內(nèi)的研發(fā)中心 , 計(jì)劃增加200名研發(fā)人員 , 并還要建造維修中心 。 這個(gè)投資力度說大不大 , 但說小也不小 , 實(shí)際上就是想憑借自己的優(yōu)勢把國內(nèi)的光刻機(jī)扼殺在搖籃中 。
國產(chǎn)光刻機(jī)再突破 , 這次是透鏡
雖然ASML試圖在國內(nèi)找回自己的地位 , 但是我們對(duì)此并不買單 , 畢竟上過的當(dāng)已經(jīng)好幾回了 。 這一次 , 光刻機(jī)自主化勢在必得 , 國內(nèi)諸多大學(xué)和研究院都在為此而努力 。 并且 , 我們已經(jīng)取得了很多的突破 , 相較于過去 , 國產(chǎn)光刻機(jī)早已今非昔比 。
隨著時(shí)間流失 , DUV光刻機(jī)對(duì)我們而言將不再是挑戰(zhàn) , 接下了EUV光刻機(jī)才是我們攻克的重點(diǎn) 。 EUV光刻機(jī)是制造業(yè)的皇冠 , 集合了西方技術(shù)結(jié)晶 , 零件達(dá)到十萬之多 。 目前 , 世界上也只有EUV光刻機(jī) 。
我們要突破EUV光刻機(jī) , 其三大核心就繞不過去 , 分別是光學(xué)系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭和雙工作臺(tái)系統(tǒng) 。
而這一次我們突破的正是光學(xué)系統(tǒng)的部分 。 來自港城大學(xué)電機(jī)工程系的蔡定平教授團(tuán)隊(duì) , 在Science Advances發(fā)表了一篇名為《真空紫外非線性超構(gòu)透鏡》的文章 , 其中所記載的新型超構(gòu)透鏡 , 是我們突破光刻機(jī)又一大技術(shù)門檻的希望所在 。
EUV光刻機(jī)的光源是極紫外光 , 所以其實(shí)際上叫做極紫外線光刻機(jī) 。 而蔡定平教授團(tuán)隊(duì)研發(fā)的新型真空紫外非線性超構(gòu)透鏡 , 能夠產(chǎn)生和聚焦極紫外光 , 并能夠?qū)⒉ㄩL395nm轉(zhuǎn)化為197nm。 聚焦光點(diǎn)的功率密度比超構(gòu)透鏡高了21倍 。
據(jù)悉 , 這一突破能夠應(yīng)用于EUV光刻機(jī)之中 , 幫助國產(chǎn)光刻機(jī)突破技術(shù)瓶頸 。 并且 , 這一技術(shù)還屬于EUV光刻機(jī)的核心技術(shù) , 對(duì)實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)自主有重大意義 。
總結(jié)
【黑莓|光刻機(jī)最重要的核心技術(shù)被突破?怪不得ASML這么急】可以發(fā)現(xiàn) , 雖然EUV光刻機(jī)號(hào)稱制造業(yè)的皇冠 , 但其并不是完全不可突破 。 至少 , 我們已經(jīng)突破了很多技術(shù) , 其中還包括最核心的那部分 。 “只要功夫深 , 鐵杵也能磨成針” , 相信EUV光刻機(jī)自主早晚能夠?qū)崿F(xiàn)自主 。
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