央視首次向全世界展示,最先進光刻機!

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在芯片制造中 , 拼的就是光刻機的先進程度 , 而國際上已知的光刻機領域的產業并不多 , 表現較好的更是寥寥無幾 。 由此可見 , 制造一臺先進的光刻機并不是一件容易的事情 。

【央視首次向全世界展示,最先進光刻機!】近日 , 我國的央視就展示出這樣一個畫面:一架結構復雜 , 體積龐大的科技機器 。 當然 , 它可不止有看起來那樣特殊 , 根據介紹 , 這臺機器價值四億美元 , 內部零件超過25萬個 , 是一臺High-NA EUV極紫外光刻機 。
除此之外 , 它在光刻機領域的地位也是首屈一指的 , 是全球目前已存的最先進的光刻機 。

世界上最先進的光刻機誕生
在央視的鏡頭里 , 這臺光刻機算得上是非常巨大了 , 科研人員站在他的身邊 , 也顯得小小一個 。 當然 , 有著這樣的體型 , High-NA EUV極紫外光刻機的重量也是達到了驚人的180噸 , 25萬多個零件需要拆開來放在250個大號箱子里 , 需要7架波音747貨機才能運走 。

光是移動它 , 就是一項巨大的挑戰 。
當然 , 在這么多技術和器件的支持下 , High-NA EUV極紫外光刻機的身價高達四億美金 , 它的任務也并不簡單 , 使用波長僅13.5納米的極紫外光 , 將電路圖案投射到硅晶圓上 , 并在狹小的芯片空間 , 雕刻上百億個晶體管 , 而每個需要雕刻的晶狀體卻只是病毒體積的千分之一 。
而這樣細致的工作 , 普通的光源遠遠達不到標準 , 于是科學家們就研發出每秒鐘數萬次激光轟擊液態錫靶的技術 , 研發出波長僅有13.5納米的極紫外光 , 但是這種光能夠吸收空氣 , 所以在實驗過程中 , 必須保持周圍環境是真空狀態 。

然而 , 解決了一個問題 , 新的問題接踵而至:普通光源是可以被玻璃反射的 , 但該光線根本不會被傳統玻璃所影響 , 所以只能通過特制的反射鏡對光線進行反射 , 而這些反射鏡則需要幾十層超薄材料 , 且對平整度有相當嚴格的要求 。
放眼國際 , 能夠制造該反射鏡的企業寥寥無幾 。

所以說 , 整個光刻機制造的過程和需要的技術都非常嚴苛 , 任何一個小環節出現問題 , 都有可能導致上億的美元打水漂 , 很多公司更是連連搖頭 , 稱有圖紙也造不出來 , 只有荷蘭ASML一家能把它們組裝起來并讓它工作 。
國際中那些芯片巨頭這次也非常謹慎 , 四億美元的價格已經是傳統光刻機的兩倍 , 就算是財大氣粗的幾個大公司 , 也必須考慮該光刻機能否帶來經濟效益 。

目前全球僅交付五臺High-NA EUV光刻機分別落戶于三大芯片巨頭 , 他們分別是英特爾、臺積電和三星 , 但被記者采訪時問及是否會在下一個項目中使用該技術時 , 得到的答案卻是否定的 。
由此可以看出 , 對于該光刻機來說 , 技術價值與商用價值并不對等 , 特別是在當下競爭激烈的芯片市場中 , 更是要精打細算每一筆投資 , 將利益最大化 。

光刻機背后的博弈
這次央視報道該光刻機絕非偶然 , 這臺號稱是最先進的設備上 , 映射出的是國際之間緊張的博弈 。

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