臺積電說不!ASML的天價EUV光刻機,我不買

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臺積電說不!ASML的天價EUV光刻機,我不買

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EUV發展到今天 , 雖然推出了很多代 , 但嚴格的來講 , 其實就兩代 。
第一代稱之為普通EUV , 其數值孔徑為0.33 , 也有人稱之為LOW NA EUV系統 。 第二借稱之為High NA EUV , 其數值孔徑為0.55 。
第一代普通EUV光刻機 , 價格大約在1-1.5億美元左右 , 而第二代High NA EUV , 價格超過4億美元 。

ASML計算的非常好 , 普通EUV用于7-3nm芯片的制造 , 然后當大家要生產2nm及以下的芯片時 , 就采購High NA EUV光刻機 。
這樣ASML賺大錢 , 畢竟一臺光刻機4億多美元 , 如果三星、臺積電們多采購幾臺 , 替代掉原來的普通EUV , 那就賺大發了 。

而intel、三星也給面子 , 先后向ASML下單 , 采購High NA EUV , 特別是intel , 更是全球第一家擁有High NA EUV的廠商 , 英特爾想要全球第一家量產2nm(18A)芯片 。
不過ASML最大的客戶臺積電 , 卻遲遲沒有動靜 , 根本就沒有向ASML下單采購最新的High NA EUV光刻機 。
之前臺積電表示稱 , 自己的2nm , 不會采用High NA EUV , 用現有的光刻機就行了 , 并且認為1.4nm芯片 , 應該也可以使用原有的EUV即可 , 臺積電能解決這個問題 。
【臺積電說不!ASML的天價EUV光刻機,我不買】
而近日 , 臺積電又表態了 , 稱不僅1.4nm的芯片 , 不會采購高達4億美元的ASML高數值孔徑(High-NA)EUV光刻機 , 連1nm都可能不會采購 。
臺積電會采用一種新的“光掩模護膜”技術 , 來推進其1.4nm、1nm芯片的研發與生產 。
當然 , 臺積電也沒有說死 , 只是說在必要的時候 , 會采購High NA EUV光刻機 , 來滿足自己的芯片制造 。

臺積電為何不買 , 原因就是因為太貴了啊 , 4億多美元一臺 , 如果臺積電買30臺 , 那就是120多億美元 , 這個成本 , 臺積電不是出不起 , 而是覺得不采購它 , 利用現有設備 , 再研發其它新技術來制造 , 肯定成本會比120億美元低的多 , 那為何要當這個冤大頭呢 , 讓三星、intel去當吧 。
對于ASML而言 , 這事就有點麻煩了 , 臺積電不買 , 那么ASML就不能生產太多了 , 否則三星、inte消化不了 , 那么自己賺錢就沒那么容易了 。

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