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AI搶產能，內存漲價潮。

騰訊

AI搶產能，內存漲價潮。

本文由半導體產業縱橫（ID：ICVIEWS）綜合
imec將極紫外光刻技術與基于間隔層的刻蝕技術相結合 ， 實現了納米級的精度和可重復性 。
比利時微電子研究中心（IMEC）已成功利用阿斯麥（ASML）最先進的極紫外光刻（EUV）設備 ， 實現了納米孔的全晶圓級制造 。 阿斯麥公司公關負責人將此稱作其公司設備“一項出人意料的卓越生物醫學應用” 。 鑒于納米孔為分子傳感技術開辟的廣闊前景 ， 這項突破或將成為該領域的重要進展 。
納米孔是蝕刻在氮化硅膜上的微小孔洞 ， 寬度僅為幾納米 。 當浸入液體中并連接到電極時 ， 單個分子可以通過這些孔洞 ， 產生可實時分析的電信號 。 由于孔徑易于調節 ， 納米孔的應用范圍十分廣泛 ， 從病毒鑒定到DNA和蛋白質分析均可勝任 。 這種無需標記的單分子檢測方法是下一代診斷、蛋白質組學、基因組學乃至分子數據存儲應用的關鍵 。
另一方面 ， 由脂質膜中的蛋白質形成的生物納米孔已應用于商業測序平臺 ， 但其穩定性及集成性仍面臨挑戰 。 固態納米孔憑借其穩健性、可調控性和與半導體制造的兼容性克服了這些限制 ， 使其成為可擴展、高通量傳感的理想選擇 。 然而 ， 在大面積范圍內實現納米級精度和均勻性的固態納米孔仍然是一個挑戰 。 目前的制造方法通常速度較慢且僅限于實驗室環境 ， 這阻礙了其在傳感應用中的廣泛應用 。
在IEDM 2025會議上發表的一篇新論文中 ， imec報告稱成功在整片300mm晶圓上制備了直徑小至約10nm的高度均勻納米孔 。 該團隊將極紫外光刻技術與基于間隔層的刻蝕技術相結合 ， 實現了納米級的精度和可重復性——這兩項長期以來一直是納米孔技術領域的挑戰 。
將納米孔嵌入氮化硅膜中 ， 并在水性環境中對其進行電學表征 。 利用DNA片段進行的易位實驗也證實了其具有高信噪比和優異的潤濕性能 ， 驗證了納米孔對生物材料的傳感性能 。
“imec擁有得天獨厚的優勢來實現這一飛躍 。 我們可以將傳統上用于存儲器和邏輯電路的極紫外光刻技術應用于生命科學領域 。 通過利用我們的光刻基礎設施 ， 我們已經證明可以大規模制造出滿足分子傳感所需精度的固態納米孔 ， ” imec研發項目經理兼第一作者Ashesh Ray Chaudhuri表示 。 “這為醫療保健及其他領域的高通量生物傳感器陣列打開了大門 。 ”
【AI搶產能，內存漲價潮?！?/strong>展望未來 ， Imec 認為固態納米孔技術的應用前景十分廣闊 ， 涵蓋快速診斷、個性化醫療、分子指紋識別 ， 甚至數據存儲等領域 。 在極紫外納米孔制造工藝的基礎上 ， 該機構正開發一套配備可擴展流體系統的模塊化讀出系統 ， 助力生命科學工具開發者評估相關化學方案、器件性能與系統需求 。 此外 ， Imec 還在將該技術拓展至電路設計領域 。 計劃在 2026 年國際固態電路會議（ISSCC）上 ， 展示一款面向固態納米孔傳感的 256 通道事件驅動型專用集成電路（ASIC）讀出芯片 。 這項成果將展現先進電子技術與下一代納米孔陣列如何實現高度集成 。
今年3月 ， ASML與imec簽署了一項新的5 年期戰略合作協議 。 這對長期伙伴將在先進工藝和可持續發展領域發揮各自的知識和專長 。
在半導體工藝方面 ， imec 牽頭建設的后 2nm 制程前沿節點 SoC中試線 NanoIC 將導入包括 High NA EUV 光刻機在內的一系列 ASML 設備 。 雙方還將在硅光子學、存儲和先進封裝領域展開合作 。
此外 ， ASML 將為 imec 探索環境和社會效益的創新想法和活動提供資金支持 。
ASML 總裁兼首席執行官 Christophe Fouquet 表示：“這項協議標志著 ASML 和 imec 之間的長期合作邁出了新的一步 。 它標志著我們共同為半導體行業開發解決方案的雄心壯志 ， 也符合我們投資技術和創新以造福全社會的戰略 。 ”
imec 總裁兼首席執行官 Luc Van den Hove 表示：“我們很高興能繼續與 ASML 保持長期獨特的合作關系 ， 30 多年來 ， 我們為業界提供了最先進的圖案化解決方案 。 ASML 完整產品組合的加入將使我們中試線的能力進一步增大和成熟 ， 為整個半導體生態系統提供最先進的研發技術 ， 以應對 AI 驅動的技術進步所帶來的挑戰 。 由于 imec 非常重視可持續創新 ， 因此將這一事項明確納入我們的合作伙伴關系是一個很好的補充 。 ”
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