光刻機|16座晶圓廠之后，EUV光刻機也傳來好消息，美國沒料到是這局面
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國內芯片制造產業的進步隨著華為芯片事件的持續發酵 ， 國內所有半導體公司都意識到了自主研發技術的必要性 ， 尤其是在芯片制造領域 ， 國內更是需要擺脫對國外供應商的依賴 。 因為華為芯片之所以會受到美國的管制 ， 就是源自于海思只有芯片設計能力 ， 無法單獨完成量產過程 。
在芯片產業必不可少的三個環節中 ， 國內的設計和封測水平都位居世界前列 ， 與國外巨頭相比也不落于下風 。 唯獨在芯片生產方面 ， 這么多年來國內始終未能取得較大的進展 ， 時至今日還是造不出先進制程的芯片 ， 這便是美國能對國內“卡脖子”的主要原因 。
就拿中芯國際這家國內大陸最大的芯片代工廠來說 ， 目前它的工藝技術停留在7nm階段 ， 但是還沒有真正實現量產 。 反觀其競爭對手臺積電和三星 ， 早在去年下半年就掌握了量產5nm芯片的能力 ， 如今更是在全面布局3nm制程 ， 差距顯而易見 。
為了改善這種局面 ， 從去年年底開始 ， 國內就再一次加大了對芯片制造產業的重視力度 ， 并且投入了大量的資金 ， 來支持國產半導體公司的研發工作 。 而前段時間 ， 有外媒報道稱 ， 截至到2021年年底 ， 全球范圍內會新增29座晶圓廠 ， 其中有16座都在國內 。
晶圓廠就是生產芯片的地方 ， 一下子多出了16座晶圓廠 ， 對于國內而言 ， 無疑是一個非常好的消息 ， 能夠進一步提升國產芯片的制造能力 。 具體來看 ， 這16座晶圓廠 ， 有8座在大陸地區 ， 另外8座位于臺灣省 ， 建成之后將為國內提供很大的幫助 。
可能很多人會想 ， 就算國內晶圓廠的數量增加了 ， 如果還是不能攻克芯片制造方面的技術和設備 ， 那也沒有什么用 。 這種說法確實很有道理 ， 但不可否認的是 ， 這16座晶圓廠肯定能夠為國產芯片帶來更多的機遇 ， 也反映出了半導體市場對國內的看好 。
EUV光刻機也傳來好消息除此之外 ， 在16座晶圓廠之后 ， EUV光刻機也傳來好消息 ， 國內的中科院、清華大學和華卓精科等公司或機構 ， 都取得了一些突破 。 EUV光刻機作為當前最先進的光刻機 ， 能夠滿足7nm和5nm等先進芯片的生產要求 ， 之前全球范圍內只有ASML能造出來 。
但是現在情況不一樣了 ， 就算沒有ASML的支持 ， 國內對EUV光刻機的研發 ， 也迎來了明顯的進展 。 首先就是中科院打造的高能同步輻射光源 ， 可以為EUV光刻機提供亮度和能量都非常高的光源設備 ， 以便在芯片制造過程中實現更高的精度 。
其次是前段時間清華大學攻克的EUV光源波長及頻段方面的問題 ， 在相關研究團隊的指導下 ，國內已經找到了最適合的EUV光源 。 最后就是華卓精科自主研發的雙工作臺 ， 它同樣是EUV光刻機最核心的組成部分 ， 國內在這方面已經有所突破 。
由此不難看出 ， 雖然ASML曾經公開表示 ， 即便是開放EUV光刻機的圖紙 ， 其它公司或國家也造不出來 ， 但是如今來看 ， 不用ASML ， 我們國內完全可以自主攻克EUV光刻機 。 等到國產EUV光刻機正式亮相的那一天 ， ASML就會徹底失去領先的地位 。
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