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方向錯了？ASML的EUV光刻機，要走進死胡同了？

光刻機阿斯麥爾

方向錯了？ASML的EUV光刻機，要走進死胡同了？

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方向錯了？ASML的EUV光刻機，要走進死胡同了？

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目前全球只有一家廠商 ， 能夠制造EUV光刻機 ， 那就是ASML 。
而全球目前幾乎所有的7nm以下的芯片 ， 均采用EUV光刻機來制造 ， 所以EUV光刻機 ， 代表的就是全球先進芯片工藝 。
考慮到EUV其實也是一代又一代升級 ， 推動著芯片工藝的發展的 ， 所以如果EUV光刻機一旦停止 ， 全球的芯片工藝可能也會停止 。

而從目前的情況來看 ， 目前ASML的EUV光刻機 ， 前方已經無路可走 ， 可能要走進死胡同里了 。
之前ASML推出的EUV光刻機 ， 是NA=0.33的光刻機 ， NA代表的是數值孔徑 ， 數值孔徑越大 ， 進入的光線越多 ， 功率就越大 ， 分辨率就越高 ， 制造的芯片就越先進 。
NA=0.33的光刻機 ， 售價大約是1.5億美元一臺 ， 也是當前臺積電、三星、英特爾們主要采用的EUV光刻機 。

不過ASML認為 ， 到了2nm時 ， 應該要換成另外一種光刻機 ， 也就是NA=0.55的光刻機 ， NA大了 ， 分辨率就更高了 ， 制造更先進的芯片時 ， 就更容易了 。
但這種NA=0.5的光刻機有個缺點 ， 就是貴 ， 售價高達4億美元一臺了 。
所以目前才賣出5臺 ， 反正臺積電稱自己不感興趣 ， 因為太貴了 ，計劃再研究研究現有的EUV ， 將NA=0.33的EUV光刻機 ， 盡量用到1.4nm再說 ， 換成新的？臺積電說不劃算 。

這對于ASML而言 ， 是一個巨大打擊 ， 從NA=0.33到NA=0.55 ， ASML研發了10年 ， 花了幾上百億美元 ， 最后如果沒人買單 ， 研發就打了水漂了 。
而在ASML的計劃中 ， 之后其實還有NA=0.75的Hpyer NA EUV光刻機的 ， 不過據稱這種光刻機 ， 其售價可能會高達8億美元 。
可以想象的是 ， 這種光刻機制造出來 ， 誰敢買單？畢竟這價格 ， 要制造多少塊芯片才能回本？

所以現在業內人士認為 ， 其實ASML的這種EUV光刻機 ， 其實前面是無路可走了 ， 再繼續提升NA是毫無意義的 ， ASML的方向 ， 不是去提高數值孔徑 ， 而是換一種另外波長更短的光刻機了 ， 而不是死守13.5nm波長的光線了 。
因為波長一變短 ， NA、分辨率等問題就迎刃而解了 ， 且科學界目前正在尋找合適的 6.7nm 和 4.4nm 波長的光源 ， 但ASML卻想著基于13.5nm波長 ， 繼續提高數值孔徑 ， 沒想著換一個方向研發 。
【方向錯了？ASML的EUV光刻機，要走進死胡同了？】當然 ， 現在一切都只是推測 ， ASML是不是真方向錯了 ， 或者未來6.7nm、4.4nm波長的光刻機才是出路 ， 只能用時間來驗證了 。

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