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國產浸潤式DUV光刻機，真的只差最后一步了

芯片光刻機

國產浸潤式DUV光刻機，真的只差最后一步了

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國產浸潤式DUV光刻機，真的只差最后一步了

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芯片制造用最核心的設備之一光刻機 ， 發展到現在 ， 已經經歷了6代 。
每一代都對應著不同的芯片工藝 ， 比如干式DUV光刻機 ， 是第四代 ， 也就是ArF光刻機 ， 采用193nm波長 ， 可以用于制造65nm的芯片 。
而第五代則是ArFi光刻機 ， 也稱之為浸潤式DUV光刻機 ， 同樣是193nm的波長 ， 但經過一層水的介質后 ， 等效于134nm ， 可以用于制造7nm ， 甚至5nm的芯片 。

但5nm以下的芯片 ， 浸潤式DUV光刻機就真的不行了 ， 必須使用到第六代 ， 也就是EUV光刻機 。
目前能夠制造EUV光刻機的廠商 ， 全球就ASML一家 ， 而能制造浸潤式DUV光刻機的廠商 ， 除了ASML之外 ， 還有尼康一家 。
而中國大陸的水平 ， 還在干式DUV光刻機 ， 也就是理論工藝65nm ， 通過多重曝光后 ， 理論是28nm的水平 。

這對于我們而言 ， 肯定是不夠的 ， 所以一直以來 ， 別說EUV光刻機 ， 大家都期待能夠國產浸潤式DUV光刻機 。
不過 ， 從現在的情況來看 ， 國產浸潤式DUV光刻機 ， 應該只差最后一步了 。
一臺光刻機 ， 有三大核心 ， 分別是光源系統、物鏡系統、工作臺這么三部分 。

干式DUV光刻機 ， 國內已經能夠制造了 。 所以干式DUV的光源系統 ， 物鏡系統 ， 工作臺 ， 我們的技術都實現了 。
而浸潤式DUV光刻機 ， 與干式DUV光刻機 ， 只有一個區別 ， 那就是多了一套浸潤式系統 ， 這套浸潤式系統 ， 說的簡單一點 ， 就是在晶圓上加了一層水 。
193nm波長的光線 ， 通過這層水折射變 ， 變成了134nm ， 然后再去照射硅晶圓 ， 將光掩模板上的芯片電路圖 ， 刻錄至硅晶圓上 。

很明顯 ， 只要搞定了浸潤式系統 ， 再利用現有的光源系統 ， 物鏡系統 ， 工作臺 ， 不就是浸潤式DUV光刻機了么？
所以說 ， 真的只差最后一步了 ， 但是這一步并不容易 ， 因為浸潤式系統 ， 說起來就是一層水 ， 但這一套系統可不簡單 ， 涉及到了力學、材料學、物理學、光學等 。
【國產浸潤式DUV光刻機，真的只差最后一步了】但不管怎么樣 ， 這一步我們一定會跨過去的 ， 估計時間也不會太久了 ， 畢竟ASML 20年前的技術 ， 我們沒道理還搞不定嘛 。

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