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比佳能先進？國產納米壓印光刻機交付，線寬<10nm，制造5nm芯片？

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比佳能先進？國產納米壓印光刻機交付，線寬<10nm，制造5nm芯片？

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比佳能先進？國產納米壓印光刻機交付，線寬<10nm，制造5nm芯片？

目前的芯片制造 ， 均基于光刻方案 ， 需要光刻機 。
而7nm以下芯片的制造 ， 更是離不開EUV光刻機 ， 而EUV光刻機全球僅ASML一家能夠制造 ， 它不僅綁定了眾多核心供應鏈 ， 還在專利上有著廣泛的布局 。
所以其它廠商 ， 要想從EUV這條線上去突破 ， 其實是非常難的 。

所以一直以來 ， 眾多的廠商 ， 都在采取不同的方式 ， 希望推出實現EUV功能的光刻機 ， 比如佳能搞納米壓印 ， 歐洲在研究DSA技術 ， 美國在研究BEL電子束技術 ， 俄羅斯研究X射線等 。
其實大家都是想走一條與ASML的EUV光同的路線 。
而比較成功的是佳能 ， 之前推出了一款納米壓印光刻系統 ， 其售價只有EUV光刻機的10%左右 ， 耗電量也只有EUV 技術的10% ， 線寬<14nm ， 按照佳能的說法 ， 可以用于5nm芯片的制造 。

不過 ， 佳能的這種設備 ， 也無法賣給中國 ， 中國想要突破EUV光刻機的封鎖 ， 還得自己努力 。
而近日 ， 傳出好消息 ， 那就是中國自己的納米壓印設備 ， 終于也有突破了 。
據“璞璘科技”微信公眾號消息 ， 璞璘科技自主設計研發的首臺PL-SR系列噴墨步進式納米壓印設備順利通過驗收并交付至國內特色工藝客戶 。

按照說法 ， 這臺納米壓印設備 ， 可對應線寬＜10nm 的納米壓印光刻工藝 ， 能夠用于儲存芯片、硅基微顯、硅光及先進封裝等領域 ， 并且已經完成了驗證 。
而佳能的納米壓印線寬<14nm ， 即可以制造5nm芯片 ， 這不意味著我們的這一臺設備 ， 一樣可以用于5nm甚至5nm以下的設備？

事實上 ， 納米壓印機 ， 與EUV光刻機有很大的不同 。
一方面是納米壓印機 ， 功率較低 ， 其實是無法用于大規模的芯片制造的 ， 因為效率較低 。 其次 ， 納米壓印機 ， 其實不太適合用于復雜的邏輯制程的芯片制造 。
因為邏輯芯片 ， 圖形結構復雜 ， 擁有數十層不同的電路結構 ， 而壓印技術是一層一層來的 ， 不同的電路結構 ， 就要換不同的壓印頭 ， 這個相當復雜 ， 且成本高 。
納米壓印機 ， 更多的適合電路圖形簡單且單一的芯片 ， 最后是多層電路圖相同的那種 ， 所以更多用于存儲芯片、封裝等領域 。

目前這臺國產的納米壓印機到底如何 ， 我們先讓子彈飛一會 ， 但至少可以證明 ， 我們已經打破了佳能的壟斷 ， 在納米壓印上 ， 有了自己的底氣了 。

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