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東京電子啟用新研發中心，瞄準1nm級芯片設備

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【東京電子啟用新研發中心，瞄準1nm級芯片設備】東京電子啟用新研發中心，瞄準1nm級芯片設備

據報道 ， 東京電子在熊本縣舉行了半導體制造設備新研發大樓的竣工儀式 ， 該大樓將主要用于研發公司在前段制程中占據領先地位的核心設備 。 東京電子將與半導體廠商等客戶展開合作 ， 共同開發下一代1nm半導體技術 。 在鞏固當前市場壟斷地位的同時 ， 助力人工智能（AI）性能提升 。
投資470億日元 ， 研發能力提升4倍東京電子新研發大樓總投資額達470億日元 ， 為地上4層建筑 ， 總建筑面積約2.7萬平方米 ， 計劃于2026年春季投入使用 。 東京電子九州公司涉足Shinichi Hayashi表示：“我們的目標是開發面向1nm及更先進技術的設備 。 ”新設施將使TEL在熊本的開發能力提升四倍 ， 中心將配備空調等設備 ， 并建設一個仿照最新芯片工廠的潔凈室 。
值得一提的是 ， 新研發中心啟用將使得東京電子在熊本的研發能力將提升至以往的 4 倍 。 未來 ， 該公司將引入空調設備等 ， 打造模擬最新半導體工廠環境的潔凈室 。 屆時將聯合客戶半導體廠商 ， 開展半導體制造演示及新設備評估工作 ， 推動技術直至實用階段 。
聚焦核心設備：涂膠顯影設備在半導體制造核心 “前道工序” 中 ， 東京電子在成膜、涂膠顯影、蝕刻、清洗這4個環節的設備市場份額均位居第一或前列 。 東京電子雖以豐富的產品線為優勢 ， 但在用于集成電路的蝕刻設備等領域 ， 市場競爭正不斷加劇 。 因此 ， 東京電子計劃通過提升研發能力 ， 鞏固涂膠顯影設備的穩固地位 ， 并借此推動在蝕刻等領域實現業績反彈 。
因此 ， 東京電子在熊本工廠主要研發、制造用于在半導體晶圓上涂抹感光材料（光刻膠）的涂膠顯影設備 。 這類設備用于光刻的前后環節 ， 在尖端領域處于無競爭對手的壟斷狀態 。 東京電子的涂膠顯影設備優勢在于能將感光材料及顯影液均勻涂抹在高速旋轉的晶圓上 。 要提高半導體的良品率 ， 必須維持高精度 ， 該設備是微細化技術中不可或缺的一環 。
值得注意的是 ， 當前東京電子業績呈現增速放緩趨勢 。 受客戶調整投資計劃、中國市場半導體制造設備銷量下滑等因素影響 ， 在2026年3月財年的最終利潤預期較初始預期大幅下調 。 不過 ， 東京電子對中長期AI需求增長的判斷未發生改變 ， 仍計劃持續推進成長型投資 ， 擬在截至2029年3月的5年間 ， 投入超過1.5萬億日元的研發費用 ， 較過去5年增長90% 。
瞄準1nm級芯片設備臺積電計劃在2025年內量產的2納米制程產品 ， 并將在2028年啟動1.4納米制程的量產 。 業界認為 ， 1 納米及以下制程的半導體將在2030年后普及 。 這將使得單芯片上能夠集成更多晶體管（半導體元件） ， 有望進一步提升生成式AI的反應速度及自動駕駛的行駛精度 。
過去 ， “摩爾定律”一直是半導體微縮的發展指南 ， 但目前該定律已接近物理極限 。 東京電子正與全球唯一生產最尖端EUV光刻設備的荷ASML公司 ， 以及比利時國際研發機構imec展開合作 ， 共同挑戰這一技術極限 。
除熊本外 ， 東京電子還在海外客戶工廠附近設立了研發基地 ， 與半導體廠商保持緊密合作 ， 公司已著眼于10至15年后的四代技術 ， 同步推進多代際研發工作 。 通過及時掌握客戶需求及研發動向 ， 東京電子能夠確?？蛻舫掷m采用自家設備 。
隨著半導體微細化程度提高 ， 制造工序愈發復雜 ， 所需化學藥劑也隨之增多 。 未來 ， 東京電子將精進設備在藥劑、水資源減量使用及節能等方面的環保技術 ， 助力降低尖端半導體的制造成本 。
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