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近日 ， 璞璘科技自主設計研發的首臺PL-SR系列噴墨步進式納米壓印設備 ， 順利通過驗收 ， 并交付至國內特色工藝客戶 ， 初步完成儲存芯片、硅基微顯、硅光、先進封裝等芯片研發驗證 。
這標志著我國在高端半導體裝備制造領域邁出堅實的一步！
據悉 ， 璞璘科技的PL-SR系列噴墨步進式納米壓印設備攻克了步進硬板的非真空完全貼合、噴膠與薄膠壓印、壓印膠殘余層控制等關鍵技術難題 ， 可對應線寬小于10nm的納米壓印光刻工藝 。
它還配備自主研發的模板面型控制系統、納米壓印光刻膠噴墨算法系統、噴墨打印材料匹配 ， 搭配自主開發的軟件控制系統 。
目前在納米壓印技術領域 ， 日本居于世界領先地位 ， 比如佳能的FPA-1200NZ2C納米壓印光刻機 ， 可實現14nm線寬 ， 號稱能夠生產5nm工藝芯片 。
很顯然 ， 璞璘科技在指標上已經超越了佳能 ， 當然也要明白 ， 這不意味著璞璘科技就能制造5nm乃至更先進的芯片 。
納米壓印技術雖然不像EUV光刻技術需要復雜、昂貴的光源系統 ， 可顯著降低能耗、成本 ， 但其制造芯片的速度遠比光刻技術慢得多 ， 而且只適合相對簡單的芯片 。
璞璘科技PL-SR系列成功攻克了噴墨涂膠工藝多項技術瓶頸 ， 在噴涂型納米壓印光刻材料方面實現重大突破 ， 成功實現了納米級的壓印膜厚 ， 平均殘余層小于10nm ， 殘余層變化小于2nm ， 壓印結構深寬比大于7:1 。
PL-SR系列還突破了納米壓印模板面型控制的技術難點 。
納米壓印模板貼合與脫模過程
PL-SR是一種通用的、重復步進納米壓印光刻系統 ， 具有高效、高精度的壓印功能 ， 還具備拼接復雜結構的性能 。
它還可滿足模板拼接的需求 ， 最小可實現20mmx20mm的壓印模板均勻的拼接 ， 最終可實現300mm晶圓級超大面積的模板 。
【超越日本！我國第一臺納米壓印光刻機交付：進軍10nm以下】
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