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光刻機全套圖紙給我國也造不出來？ASML零部件工程師說出了真心話

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光刻機 ， 堪稱工業領域的 “珠穆朗瑪峰” ， 是眾多科技強國夢寐以求想要攻克的設備 。 它的復雜程度超乎想象 ， 涉及光學、物理學、機械、化學等多個領域的頂尖科學技術 ， 全球沒有任何一個國家能獨立解決它所需的所有核心零部件 。

在全球范圍內 ， 目前只有荷蘭的 ASML 公司能夠量產 EUV 光刻機 。 但 ASML 并非完全獨立 ， 它背后用到了大量美國技術 ， 而且有美國資本的背書 。 這使得 ASML 的 EUV 光刻機不僅是荷蘭的驕傲 ， 更在一定程度上受到美國的影響和控制 。
我國是全球最大的芯片需求國 ， 每年在芯片進口上的花費巨大 。 如果能實現光刻機的自給自足 ， 就能大幅減少對進口的依賴 ， 徹底解決國內企業被 “卡脖子” 的問題 。 然而 ， 現實卻給了我們沉重一擊 。
早年間 ， 我國曾派專家到 ASML 學習訪問 ， 可得到的卻是 “就算給你們全套圖紙 ， 你們也造不出來” 的嘲諷 。 隨著芯片戰的打響 ， ASML 的 EUV 光刻機更是被嚴格管控 。 2018 年 ， 中芯國際向 ASML 訂購了一臺 EUV 光刻機 ， 時至今日 ， 這臺光刻機仍未到貨 。

這樣的封鎖和嘲諷 ， 徹底點燃了國人攻克光刻機難題的決心 。 大家都明白 ， 要實現光刻機的自給自足 ， 不僅僅是制造出來那么簡單 ， 更難的是要規避 ASML 的技術專利 ， 走出一條屬于我們自己的道路 。
在這場攻堅戰中 ， 哈工大扛起了大旗 。 2022 年 ， 哈工大科研團隊成功研制出光源樣機 ， 時隔一年 ， 又完成了原型機的開發 。 值得一提的是 ， 哈工大在光源方面選擇的是 DPP（放電等離子體）路線 ， 而 ASML 采用的是 LPP（激光等離子體）方案 ， 這是兩者的重要不同之處 。
LPP 方案需要高能二氧化碳激光器 ， 相關技術被德國通快公司牢牢掌握 ， 我國若想在這條路上追趕 ， 難度極大 ， 需要耗費大量的時間、精力和資金 。 而 DPP 方案就像電動車對燃油車的彎道超車 ， 雖然起步艱難 ， 但能繞過專利墻 ， 實現換道超車 。

在光刻機領域 ， 尤其是 EUV 光刻機中 ， 核心子系統大部分都已有突破 ， 比如雙工件臺、物鏡基本都達到了 EUV 的標準 ， 最難攻克的部分就是光源 。 哈工大在光源上的突破 ， 無疑是邁出了關鍵的一步 。
去年年底 ， 哈工大科研團隊完成了 “放電等離子體 13.5nm 的極紫外光源” 項目 ， 并獲得了當地科技創新成果轉化大賽一等獎 。 這一成果意味著 ， 中國終于有了國產 EUV 光刻機的 “種子” 。

看似簡單的光源突破 ， 背后是科研團隊付出的巨大努力 。 他們在零下 30℃的真空腔體中 ， 用三年時間攻克了 127 項技術專利 。 僅電極材料的抗腐蝕涂層 ， 就經歷了 400 多次的配方調整 。 每一次實驗 ， 每一次調整 ， 都凝聚著科研人員的心血和汗水 。

ASML 的物鏡供應商蔡司 ， 其工程師在私下交流時說出了真心話：“中國人解決電極腐蝕問題的速度 ， 比他們的預期快了至少 5 年 。 ” 要知道 ， 電極腐蝕是光源的大敵 ， ASML當年磨了十幾年 ， 中國只用幾年就啃下來 。 這無疑是對中國科研團隊努力的高度認可 。
這不是偶然 ， 舉國之力在發力 ， 因為除了哈工大之外 ， 清華大學薛其坤團隊搞穩態微聚束光源（SSMB） ， 也完全避開傳統路線；北航鉆研“三元計算芯片” ， 能耗比傳統芯片低60% 。 這些看似分散的突破 ， 正擰成一股“組合拳” 。

雖然目前我國的 EUV 光刻機與 ASML 的產品還有一些差距 ， 部分技術仍然停留在實驗室階段 ， 但中國速度從不讓人失望 ， 國內市場需求嗷嗷待哺 ， 中科院等機構全力助攻 ， 加上哈工大、清華的產學研聯動 ， 國產EUV光刻機落地只是時間問題 。
【光刻機全套圖紙給我國也造不出來？ASML零部件工程師說出了真心話】回看航天史 ， 長征五號失利后 ， 咱們不也建成了空間站？芯片突圍 ， 注定是多線作戰的持久戰 ， 但這一次 ， 沒人再敢說“造不出來” 。

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