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ASML現在的局面，就像當年佳能、尼康，面對浸潤式光刻機一樣

光刻機佳能尼康阿斯麥爾

ASML現在的局面，就像當年佳能、尼康，面對浸潤式光刻機一樣

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ASML現在的局面，就像當年佳能、尼康，面對浸潤式光刻機一樣

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ASML現在的局面，就像當年佳能、尼康，面對浸潤式光刻機一樣

如果大家關注光刻機的發展歷史就會知道 ， 別看現在的荷蘭ASML很厲害 ， 但在早期真的只是一個小廠 ， 日本的尼康、佳能比ASML牛很多 。
當年的尼康、佳能 ， 根本就沒有將ASML放在眼里 ， 因為ASML技術不行 ， 市場份額更是毫無可比性 ， 沒有逆襲的可能性 。

轉折點是什么呢？
當時尼康、佳能們已經研發出了DUV光刻機 ， 采用193nm波長的光源 。 而在這種DUV光刻機后 ， 尼康、佳能覺得應該進一步縮短光源的波長 ， 實現分辨率的提升 。
尼康佳能押寶的是157nm波長的光線 ， 覺得應該從193nm ， 提升至157nm 。 不過157nm的光線非常不好搞 ， 穿透率很差 ， 容易被空氣吸引 ， 所以尼康佳能在不斷的改進技術 。

這時候臺積電的林本堅覺得 ， 為什么要去搞157nm波長的光刻機呢 ， 在193nm波長的光線前面 ， 加一層水 ， 而193nm波長的光線 ， 通過水的折射后 ， 變成134nm了 ， 比157nm波長更短了 。
同時134nm的光線穿透性也好 ， 更不容易被吸引 ， 不是比157nm光線強多了么？
但尼康、佳能覺得自己在157nm波長已經投入了幾十上百億研發 ， 機器就要量產了 ， 我才不去搞什么加水的方式 ， 以前大家沒用過水來當介質的 。
【ASML現在的局面，就像當年佳能、尼康，面對浸潤式光刻機一樣】
只有ASML覺得這可能是自己的機會 ， 反正光腳的不怕穿鞋的 ， 賭一把了 ， 就和臺積電配合 ， 把這種浸潤式DUV光刻機搞了出來 。
浸潤式光刻機 ， 采用193nm波長 ， 經過水折射后變成134nm ， 比尼康佳能搞的157nm光刻線更厲害 ， 同時成本也低一些 ， 而尼康、佳能死守望157nm ， 最后是一步錯步步錯 ， 再也追不上ASML了 。

而現在其實ASML也就像當年的尼康、佳能一樣 ， 面對浸潤式光刻機一樣 。
為何這么說呢 ， 目前13.5nm波長的極紫外線光刻機 ， 其實已經被ASML發揮到極致了 ， 從NA=0.33 ， 提升至NA=0.55了 。 但ASML還計劃繼續提升NA ， 達到0.75 。
而提升NA是非常困難的 ， 就相當于尼康、佳能們當年想從193nm提升至157nm一樣 ， NA提升 ， 各種元件都要提升 ， 難度大 ， 成本高 。

而此時 ， 其它光刻機廠商們 ， 也像當年的ASML一樣 ， 反正光腳的不怕穿鞋的 ， 去研究采用6.8nm、4.4nm光線技術去了 ， 還有的去研發NIL、DSA、BEL等各種技術去了 ， 都想換一條與ASML這種提升NA的方式 。
至于最后是這些小廠商 ， 像當年ASML革了尼康、佳能的命 ， 還是ASML繼續稱霸光刻機市場 ， 就不得而知了 。
反正現在的ASML ， 也就像當年尼康、佳能面對浸潤式光刻機一樣 ， 是革自己的命 ， 還是堅持自己的方向 ， 讓別人來革命？當然現在誰也說不出誰對誰錯 ， 只能交給時間了 。

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